等離子拋光技術(shù)可以與人工智能、云計(jì)算、物聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)相結(jié)合，實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集、處理、分析和反饋，實(shí)現(xiàn)對表面處理過程的智能化控制和優(yōu)化。它可以通過實(shí)時(shí)監(jiān)測和反饋機(jī)制，實(shí)現(xiàn)對表面處理效果的實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)和優(yōu)化，提高了生產(chǎn)效率和表面處理質(zhì)量。等離子拋光技術(shù)作為一種新興的表面處理技術(shù)，具有廣闊的發(fā)展前景和應(yīng)用空間。隨著制造業(yè)的不斷發(fā)展和智能化進(jìn)程的推進(jìn)，等離子拋光技術(shù)將會得到更加廣泛的應(yīng)用和重視。同時(shí)，它也將會面臨更加嚴(yán)峻的技術(shù)挑戰(zhàn)和市場競爭，需要不斷創(chuàng)新和發(fā)展，才能實(shí)現(xiàn)持續(xù)的發(fā)展和應(yīng)用。

等離子拋光技術(shù)是目前進(jìn)的表面微觀整平技術(shù)之一，可以在較短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)對樣件表面粗糙度的顯著下降。該技術(shù)利用離子放電原理，使放電通道更多的是在微觀凸起的位置形成，從而優(yōu)先去除該位置的材料，實(shí)現(xiàn)表面微觀整平。拋光開始階段，由于樣件表面存在明顯凹凸不平的狀態(tài)，使得放電通道更多選擇在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快。但隨著拋光時(shí)間的延長，粗糙度下降的速度逐漸減緩。離子拋光技術(shù)是現(xiàn)代制造業(yè)中不可或缺的重要技術(shù)，為提高產(chǎn)品質(zhì)量提供了強(qiáng)有力的保障。

拋光液的溫度越低，材料的去除速度越快。低溫條件下材料的去除速度快主要是因?yàn)? 溫度越低，拋光液被蒸發(fā)需要吸收的熱量就越多，相同條件下生成的氣體越少，包圍在零件周圍的混合氣體層越薄，而在壓強(qiáng)和電壓不變的情況下，氣體變薄就意味著電場強(qiáng)度增大，導(dǎo)致碰撞電離系數(shù)顯著增大，雖然總的碰撞距離減小，但仍然有更多的電子沖擊到工件表面，材料的去除速度當(dāng)然更快。但在拋光液低溫情況下，混合氣體層較薄，也意味著氣體層不太穩(wěn)定，等離子拋光過程中斷并轉(zhuǎn)變一般電解的的可能性越大，同時(shí)氣體層薄也意味著系統(tǒng)的電阻減小，電流增大，且電流值大幅度變化，常常引起零件尖銳部位燒蝕等現(xiàn)象，這對復(fù)雜形狀零件和大尺寸零件來說特別明顯。隨著拋光液溫度的提高，等離子納米拋光過程開始穩(wěn)定，90-100屬于理想加工溫度范圍，在這一范圍內(nèi)材料的去除速度雖然不是快，卻更容易獲得更好的表面質(zhì)量。溫度繼續(xù)升高將導(dǎo)致拋光液氣化增強(qiáng)，混合氣層溫度升高厚度增加，加工時(shí)間也相應(yīng)延長。當(dāng)拋光液溫度達(dá)到95-99°C時(shí)，等離子加工過程轉(zhuǎn)到泡沫狀態(tài)。拋光液沸騰，蒸氣氣層失去自身的尺寸和形狀整個(gè)零件處于連續(xù)移動的泡沫中，其電阻與等離子理想加工狀態(tài)的氣層電阻值相比大大提高，此時(shí)被加工表面電流也會減小。