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鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)
1. 光學(xué)系統(tǒng):中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng),焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學(xué)分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限
6. 自動匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管,降低了維護(hù)成本
8. 計算機(jī)控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵,具有快速清洗功能
9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復(fù)性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD
≤2.0%(大于3小時)
由鋼研納克承擔(dān)的國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進(jìn)展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題,接近于商品水平的產(chǎn)品樣機(jī)將于年內(nèi)完成;ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機(jī)已成功組裝和調(diào)試,采集到正確的譜圖,這一突破標(biāo)志著在第二代樣機(jī)上采用的自主設(shè)計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關(guān)鍵、難點技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)原理。為高質(zhì)量、按期完成項目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅實的基礎(chǔ)。
Plasma 2000型ICP-OES測定污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅
鋼研納克
隨著城市污水處理量的增加,處理過程中產(chǎn)生的污泥總量也在不斷上升。污泥中除了含有豐富的有機(jī)物,還含有很多難以降解的金屬元素,如果處理不當(dāng)會造成更為嚴(yán)重的二次污染。因此對污泥中金屬元素含量的監(jiān)測尤為重要。本文采用微波消解的前處理方法,單道掃描ICP光譜儀價格,使用Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,建立了污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅6種元素測量方法,加標(biāo)回收率在93.4% - 106.6%之間,方法可靠,適用于污泥中金屬元素的測定。
實驗過程
1
儀器特點
觀測方式:徑向觀測
分光系統(tǒng):中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),全譜瞬態(tài)直讀
檢測器:大面積背照式CCD芯片,高紫外檢出效率,寬動態(tài)范圍
光源:固態(tài)射頻發(fā)生器,小體積
2
儀器參數(shù)
表1 Plasma 2000工作條件
3
實驗方法
稱取一定量污泥樣品,加入一定比例的混酸,使用微波消解儀消解。待樣品冷卻后取出,定容至100mL容量瓶待測。
4
分析譜線
表2 Plasma 2000譜線選擇(nm)
5
標(biāo)準(zhǔn)曲線
Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標(biāo)準(zhǔn)溶液(國家鋼鐵材料測試中心,1000 μg/mL)配制曲線濃度如表3 ,線性相關(guān)系數(shù)大于0.999。
表3 標(biāo)準(zhǔn)曲線濃度(μg/mL)
6
測定結(jié)果
在實際樣品中加入被測元素,其加標(biāo)回收率93.4%-106.6%為之間,滿足定量要求。
表4 實際樣品分析結(jié)果(%)
結(jié)論
本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測定污水處理廠中污泥中重金屬元素,加標(biāo)回收率介于93.4%-106.6%之間,適用于污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等元素的檢測。
企業(yè): 鋼研納克江蘇檢測技術(shù)研究院有限公司
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