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在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,超純水主要用于清洗硅片。少量水用于配制藥劑、硅片氧化的蒸汽源、某些設(shè)備的冷卻水、電鍍?nèi)芤旱呐渲?。集成電路產(chǎn)品的質(zhì)量與產(chǎn)量密切相關(guān)。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會降低PN結(jié)的耐壓力,III族元素 (B、Al、Ga等)會使N型半導(dǎo)體特性惡化,V族素(P、As、Sb等)會使P型半導(dǎo)體特性惡化。細(xì)菌高溫炭化水中的磷(約為灰分的20%~50%)會使p型硅片局部變?yōu)镹型硅片,導(dǎo)致器件性能下降。水中的顆粒,包括細(xì)菌,保定edi超純水設(shè)備,如果附著在硅片表面,會導(dǎo)致短路或性能惡化??梢?,超純水在半導(dǎo)體行業(yè)的必要性。
EDI超純水系統(tǒng)是電子、化工、電鍍等對水質(zhì)要求較高的行業(yè)的一種制水設(shè)備。運行能耗低,edi純水設(shè)備,無酸堿廢水排放。雖然設(shè)備投資較高,但后期維護(hù)成本相對較低,無需酸堿再生。那么,edi超純水設(shè)備價格,EDI超純水系統(tǒng)出水電導(dǎo)率受哪些因素影響?
1、原水:原水水質(zhì)發(fā)生變化,原水電導(dǎo)率高,產(chǎn)水自然受到影響。
2、預(yù)處理:機械過濾器、活性炭過濾器未定期及時反沖洗。
3、反滲透膜元件損壞或超過使用壽命。
4、保安過濾器污堵。
5、RO除鹽率下降和產(chǎn)水量下降10%或RO進(jìn)水壓力上升10%時,有沒有及時進(jìn)行清洗。
6、在不同的進(jìn)水流量下,EDI超純水系統(tǒng)出水電導(dǎo)率會隨著電流的變化而變化。這是因為在電路中,淡室中的溶液相和樹脂相是并聯(lián)的。離子輸送主要是通過樹脂相進(jìn)行的,在一定的淡水流量范圍內(nèi),流量對樹脂的影響較小,因此EDI膜堆的總電流變化不大,而水的電導(dǎo)率變化也很小,因此進(jìn)水流量對水質(zhì)的影響相對較小
7、工作電壓對出水電導(dǎo)率影響很大。如果工作電壓太小,在純水排出之前,edi超純水設(shè)備廠,不足以將離子從淡室中移除。電滲析工藝和樹脂電再生工藝相對較弱。此時,主要進(jìn)行離子交換過程。隨著工作電壓的升高,水的離解度增大,樹脂再生效果好,淡水電導(dǎo)率降低。當(dāng)工作電壓升高到一定程度時,離子交換過程與樹脂再生過程達(dá)到平衡,產(chǎn)水電導(dǎo)率進(jìn)一步降低并趨于穩(wěn)定。然而,過高的工作電壓會導(dǎo)致水電離和離子反應(yīng)擴散過度,降低產(chǎn)水的質(zhì)量。因此,建議EDI在適當(dāng)?shù)碾妷合逻\行。
EDI超純水系統(tǒng)中微生物的繁殖方法一般有以下原因:
1、在密封環(huán)境中,由于接觸不良而發(fā)生滲水,導(dǎo)致內(nèi)部環(huán)境受到外部微生物和繁殖細(xì)菌的影響。
2、消耗品長期未更換,導(dǎo)致反滲透膜上微生物過度聚集,微生物增多,水質(zhì)下降。
3、EDI超純水系統(tǒng)長期未使用,放置時微生物生長。
4、進(jìn)水水質(zhì)差,導(dǎo)致預(yù)處理系統(tǒng)耗材消耗快,微生物繁殖快。
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