光學(xué)玻璃加工中為何需要超純水設(shè)備？

關(guān)于光學(xué)玻璃應(yīng)用中的超純水制備，超純水設(shè)備采用反滲透結(jié)合EDI裝置相結(jié)合的工藝來制備電阻率達(dá)到18 MΩ*cm(25℃)的超純水，完全符合光學(xué)玻璃的需求。設(shè)備還具有使用壽命長、低耗能、運(yùn)行成本低、水利用率高、體積小、運(yùn)行的時間長久等優(yōu)勢，采用的膜技術(shù)，半導(dǎo)體純水設(shè)備報價，有效的去除了水中的導(dǎo)電介質(zhì)，不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物等，在保證系統(tǒng)高回收率的同時，還有效提高系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)。

超純水的水質(zhì)直接關(guān)系到半導(dǎo)體成品率

在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，半導(dǎo)體純水設(shè)備定制，超純水可用于晶圓漂洗、化學(xué)稀釋、化學(xué)機(jī)械研磨、潔凈室環(huán)境的加濕源等。超純水的質(zhì)量直接關(guān)系到半導(dǎo)體的成品率，隨著半導(dǎo)體元件尺寸的縮小和細(xì)度的提高，對超純水質(zhì)量的技術(shù)要求也在不斷提高。

在超純水生產(chǎn)過程中，唐山半導(dǎo)體純水設(shè)備，只要微粒子、電阻率和TOC與氣泡中的某一指標(biāo)稍有差異，就會使半導(dǎo)體元件生產(chǎn)的合格率下降。

超純水設(shè)備發(fā)展前景廣闊

傳統(tǒng)的超純水制備工藝通常采用離子交換樹脂制備，但離子交換樹脂停止生產(chǎn)需要樹脂再生，高能耗也增加了勞動力成本。經(jīng)過多年的實踐，超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，利用反滲透結(jié)合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達(dá)18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導(dǎo)體生產(chǎn)用水的需求。同時，設(shè)備還配備了反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，以確保設(shè)備的出水水質(zhì)。同時，EDI處理裝置產(chǎn)生的廢水較少，不會污染環(huán)境，具有較高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益，具有廣闊的發(fā)展前景。

超純水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優(yōu)勢，出水水質(zhì)符合電池用水相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，為半導(dǎo)體用水保駕護(hù)航。隨著超純水設(shè)備技術(shù)不斷完善，開啟了各行業(yè)生產(chǎn)發(fā)展的新局面。許多企業(yè)在生

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