中系稀土拋光粉，主要適用于光學(xué)儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高粉比較，潮州稀土拋光粉，可使拋光粉的液體濃度降低11%，稀土拋光粉生產(chǎn)，拋光速率提高35%，制品的光潔度可提高一級(jí)，拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國(guó)內(nèi)使用這種拋光粉的用量尚少，有待于今后繼續(xù)開發(fā)新用途。

　　低系稀土拋光粉，如771型適用于光學(xué)眼鏡片及金屬制品的高速拋光；797型和C-1型適用于電視機(jī)顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H-500型和877型適用于電視機(jī)顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用于對(duì)光學(xué)儀器，攝像機(jī)和照像機(jī)鏡頭等的拋光，這類拋光粉國(guó)內(nèi)用量，約占國(guó)內(nèi)總用量85%以上。

因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級(jí)稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領(lǐng)域的應(yīng)用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級(jí)稀土拋光粉目前也已經(jīng)問世，隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用前景不可預(yù)測(cè)，稀土拋光粉公司，但目前其市場(chǎng)份額還很小，屬于研發(fā)階段。






目前，我國(guó)生產(chǎn)系稀土拋光粉的原料有下列幾種：（1）氧化（CeO2），由混合稀土鹽類經(jīng)分離后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氫氧化物（RE（OH）3），為稀土精礦（w（REO）≥50%）化學(xué)處理后的中間原料（w（REO）=65%，w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土（主要含La，Ce，Pr和Nd，稀土拋光粉的價(jià)格，w（REO）≥45%，w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精礦（w（REO）≥60%，w（CeO2）≥48%），有內(nèi)蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳礦精礦。






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