超純水的水質(zhì)直接關(guān)系到半導(dǎo)體成品率

在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，超純水可用于晶圓漂洗、化學(xué)稀釋、化學(xué)機械研磨、潔凈室環(huán)境的加濕源等。超純水的質(zhì)量直接關(guān)系到半導(dǎo)體的成品率，隨著半導(dǎo)體元件尺寸的縮小和細度的提高，對超純水質(zhì)量的技術(shù)要求也在不斷提高。

在超純水生產(chǎn)過程中，唐山edi超純水設(shè)備，只要微粒子、電阻率和TOC與氣泡中的某一指標稍有差異，就會使半導(dǎo)體元件生產(chǎn)的合格率下降。

超純水設(shè)備出水符合芯片生產(chǎn)用水需求

超純水設(shè)備出水符合芯片生產(chǎn)用水需求　在芯片生產(chǎn)中，幾乎每一道工序都需要超純水清洗，工件與水直接接觸。一旦水質(zhì)不達標或水中含有雜質(zhì)，就會降低設(shè)備性能，降低產(chǎn)量。確保超純水的質(zhì)量是我國自主研發(fā)芯片的重要基礎(chǔ)。傳統(tǒng)的超純水生產(chǎn)工藝采用陰離子樹脂交換設(shè)備。這種工藝的缺點是樹脂在使用一段時間后會頻繁地再生，增加成本。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟，萊特萊德采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產(chǎn)超純水，出水電導(dǎo)率可達18.2MΩ，滿足芯片行業(yè)用水需求。隨著芯片制造工藝中對設(shè)計的需求更小，對純水水質(zhì)的要求也越來越嚴格。萊特萊德芯片超純水設(shè)備能在一定程度上去除水中的二氧化硅、顆粒、細菌、有機物和微生物，edi超純水設(shè)備廠，從而達到行業(yè)用水要求。

導(dǎo)致超純水水質(zhì)惡化的原因有哪些？設(shè)計　　清洗過程中，edi超純水設(shè)備廠家，平底水箱中的水不能排出。無法排凈的水是細菌生長的溫床。因此，edi純水設(shè)備，我們建議使用錐形底部的水箱以便排空所有水。水箱應(yīng)通過吹塑成型，以防止凹凸不平的表面為細菌的生長和繁殖提溫床。　　分配　　良好的分配泵應(yīng)連續(xù)工作10小時也不會造成溫度升高，避免為細菌生長提供條件。消毒　　即使是微生物的繁殖也會形成生物膜，降低水質(zhì)。因此，安裝能夠抑制細菌生長的消毒模塊(紫外線燈)非常重要。

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