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純凈水和無(wú)法滲透過(guò)的濃縮水嚴(yán)格的分開(kāi)。其優(yōu)點(diǎn)是:
1、組成設(shè)備所用的零件性能良好,質(zhì)量有所保證,edi超純水設(shè)備廠(chǎng)家,可以有較長(zhǎng)的使用壽命。
2、能夠根據(jù)需要增加反滲透膜,從而使得水處理的容量變大。
3、當(dāng)設(shè)備出現(xiàn)問(wèn)題的時(shí)候,edi超純水設(shè)備廠(chǎng),其所配備的“自我保護(hù)系統(tǒng)”能夠使得設(shè)備及時(shí)地停止運(yùn)作。
4、超純水設(shè)備采用了復(fù)合膜,這種反滲透膜能夠更有效地去除水中的雜質(zhì)、污染物等有害物質(zhì)。
5、超純水設(shè)備設(shè)計(jì)合理,天津edi超純水設(shè)備,相對(duì)于其他設(shè)備占地面積小。
6、復(fù)合膜的沖洗維護(hù)十分方便,edi純水設(shè)備,膜的抗污染性能良好,可有效降低膜的清洗頻率。
超純水設(shè)備出水符合芯片生產(chǎn)用水需求
是指載有集成電路的半導(dǎo)體元件。芯片制造又稱(chēng)晶圓制造,是在晶圓表面通過(guò)物理和化學(xué)工藝步驟形成器件,并用金屬線(xiàn)將器件連接起來(lái)形成集成電路的過(guò)程。芯片的需求主要來(lái)自科技的蓬勃發(fā)展,電子消費(fèi)產(chǎn)品芯片的需求不低于汽車(chē)行業(yè)的需求。芯片的生產(chǎn)過(guò)程冗長(zhǎng),對(duì)所有的設(shè)備技術(shù)要求很?chē)?yán)格,短時(shí)間解決芯片短缺問(wèn)題仍然是一個(gè)難題,而如何提高芯片的成品率問(wèn)題就顯得尤為重要。
EDI超純水技術(shù)受歡迎的原因是什么?與傳統(tǒng)混床技術(shù)相比,EDI超純水技術(shù)工藝摒棄伴生廢酸、廢堿污染的傳統(tǒng)離子交換技術(shù),具有無(wú)化學(xué)污染、連續(xù)再生、啟動(dòng)操作簡(jiǎn)單、模塊更換方便、產(chǎn)水純度高、回收率高、占地面積小、微生物污染風(fēng)險(xiǎn)低等優(yōu)點(diǎn)。這對(duì)保護(hù)環(huán)境和節(jié)約能源非常有益。同時(shí),EDI超純水技術(shù)樹(shù)脂消耗量?jī)H為傳統(tǒng)混床的5%,具有較高的成本效益。由于溶解在水中的大多數(shù)氣體(如二氧化碳)都呈弱電性,EDI可以有效地去除它們。EDI超純水技術(shù)結(jié)合了電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)。通過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜的選擇性滲透和離子交換樹(shù)脂的交換
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