殘留的光刻膠、樹脂、殘留物和其他有機(jī)污染物暴露在等離子體中，清洗機(jī) slc (100)可以在短時間內(nèi)去除。等離子表面清洗和表面改性（等離子表面處理）利用等離子的特性對待處理固體原料的表面進(jìn)行清洗、活化和激發(fā)，濕法清洗臺，去除表面的微觀結(jié)構(gòu)、化學(xué)性質(zhì)和能量。目的是改變。等離子體是一種高能、不穩(wěn)定的狀態(tài)。等離子體以各種方式用于利用這種高能量和不穩(wěn)定性。

光電子器件應(yīng)用范圍十分廣闊，如家用攝像機(jī)、手機(jī)相機(jī)、夜視眼鏡、微光攝像機(jī)、光電瞄具、紅外探測、紅外制導(dǎo)、紅外遙感、指紋探測、醫(yī)學(xué)檢測等等，從產(chǎn)品擴(kuò)展到民用產(chǎn)品，其使用范圍難以勝數(shù)，是一個巨大的產(chǎn)業(yè)。光電子器件是光電子技術(shù)的關(guān)鍵，是現(xiàn)代光電技術(shù)與微電子技術(shù)的前沿研究領(lǐng)域，是信息技術(shù)的重要組成部分。光電子器件發(fā)展十分迅猛，不斷采用新技術(shù)、利用新材料、研究新原理、開發(fā)新產(chǎn)品，各種新型器件不斷涌現(xiàn)、器件性能不斷提高。

適用于硅片晶圓濕法清洗、濕法刻蝕、顯影、去膠、LIFT-OFF等工藝；標(biāo)準(zhǔn)吸盤適用于2-12英寸晶圓，連云港清洗，其它規(guī)格可定制；一體式清洗腔體；進(jìn)口伺服電機(jī)控制，SH去膠清洗設(shè)備，轉(zhuǎn)速及工藝時間參數(shù)可自由設(shè)定；采用進(jìn)口旋轉(zhuǎn)電機(jī)，運行安靜平穩(wěn)，晶圓清洗臺，故障率低；真空吸盤采用PEEK PTFE材質(zhì)，強度高、耐腐蝕、密封性能好；載片臺采用真空吸附 PIN定位，防止甩片碎片；真空度≤-100KPa；化學(xué)液及純水自動供應(yīng)，流量可視可調(diào)；可裝配裝取片機(jī)器人；配套藥液供應(yīng)系統(tǒng)；配有兆聲清洗，兆聲頻率280-950KHz可選，功率連續(xù)可調(diào)；可配置滾刷刷洗；