超聲波清洗機(jī)橡膠工業(yè)：

需要清洗的產(chǎn)品：手套、帶子、白輪胎、橡膠制品、橡膠成型金屬模/陶瓷模等

污染源：指紋、塵垢、防腐劑、油墨、染料、塑料殘留物、橡膠殘渣

使用清洗劑：堿性洗滌劑、酸性洗滌劑、中性洗滌劑；純水

清洗設(shè)備是指可用于替代人工來清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機(jī)械設(shè)備。目前市面上所見到清洗設(shè)備為：超聲波清洗、高壓噴淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及復(fù)合型清洗設(shè)備等；

硅片清洗物理清洗 

　物理清洗有三種方法。①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數(shù)粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，顯影清洗機(jī)，噴嘴的壓力高達(dá)幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產(chǎn)生劃痕和損傷。但高壓噴射會產(chǎn)生靜電作用，顯影設(shè)備，靠調(diào)節(jié)噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液，靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是，從有圖形的片子上除去小于 1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。

傳統(tǒng)和現(xiàn)代應(yīng)用中越來越多地采用MEMS技術(shù)，晶圓清洗序列中越來越多的關(guān)鍵步驟，顯影清洗，對3D結(jié)構(gòu)晶圓的需求增加，顯影，以及物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用中越來越多地采用硅基傳感器、芯片和二極管，這些都推動了晶圓清洗機(jī)市場的增長。

晶圓清洗機(jī)指硅片晶圓生產(chǎn)清洗工藝中，用于去除硅片晶圓表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性的設(shè)備。

顯影清洗機(jī)-顯影-晶淼半導(dǎo)體 清洗機(jī)由蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司提供。蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司位于蘇州工業(yè)園區(qū)金海路34號。在市場經(jīng)濟(jì)的浪潮中拼博和發(fā)展，目前蘇州晶淼半導(dǎo)體在清洗、清理設(shè)備中享有良好的聲譽。蘇州晶淼半導(dǎo)體取得全網(wǎng)商盟認(rèn)證，標(biāo)志著我們的服務(wù)和管理水平達(dá)到了一個新的高度。蘇州晶淼半導(dǎo)體全體員工愿與各界有識之士共同發(fā)展，共創(chuàng)美好未來。