RCA清洗法：依靠溶劑、酸、表面活性劑和水，在不破壞晶圓表面特征的情況下通過噴射、凈化、氧化、蝕刻和溶解晶片表面污染物、有機物及金屬離子污染。在每次使用化學品后都要在超純水（UPW）中清洗。以下是常用清洗液及作用。

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清洗安全操作規(guī)范：

(1)有機廢液和無機廢液要回收嚴格分開，放入不同密封箱里；

(2)異bing醇和去膠液的溫度已經(jīng)固定，不得隨意更改。如確有需要，半導體，向領班匯報，等待上級批準；

(3)硫酸和混合溶液一定要等到冷卻到30°C以下才能回收；

(4)溶液配制或回收時，半導體濕法腐蝕設備，濺到操作臺上的溶液一定要用水沖干凈，再用氮qi吹干，半導體清洗機，保持工作臺的清潔、干凈。

RCA清洗法  ：

      人們使用的清洗方法沒有可依據(jù)的標準和系統(tǒng)化。1965年，半導體腐蝕機， RCA（美國無線電公司）研發(fā)了用于硅晶圓清洗的RCA清洗法，并將其應用于 RCA元件制作上。該清洗法成為以后多種前后道清洗工藝流程的基礎，以后大多數(shù)工廠中使用的清洗工藝基本是基于初期的RCA清洗法。

蘇州晶淼半導體設備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設備、清洗設備、pp/pvc通風柜/廚、cds化學品集中供液系統(tǒng)解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應用與微電子、半導體、光伏、光通信、led等行業(yè)及高等院校、研究所等等科技領域的生產(chǎn)和研發(fā)。