超聲清洗：

　　腐蝕后的MCP是由微米級細孔構成的復雜網(wǎng)狀結構，普通的清洗方法一般不能達到孔內(nèi)，而孔內(nèi)芯料的反應生成物及其他污染物會在后序工藝中會產(chǎn)生重復污染。無論是采用·溶劑或是清洗液清洗都容易引入新的污染源，然而利用超聲波清洗技術卻可以實現(xiàn)無重復污染，而且能深入MCP孔內(nèi)的效果。

全自動真空干燥系統(tǒng)暨應對傳統(tǒng)真空干燥缺陷的對策

由于超級電容MODULES在使用過程中經(jīng)常出現(xiàn)溫度升高、充電不足、高溫連續(xù)使用時膨脹、爆裂的現(xiàn)象，半導體腐蝕設備，美國MAXWELL確認與超級電容CELL的制造工藝和工藝設備有相關性，TIME一直在研究真空干燥的理由和方法，2006年美國MAXWELL找到了TIME，就開發(fā)全工序全自動的真空干燥系統(tǒng)達成協(xié)議。

全自動超級電容真空干燥系統(tǒng)系統(tǒng)在各單個制備工序以及在從一道工序轉移到下一道工序的過程中完全實現(xiàn)高真空環(huán)境；有效排除超級電容內(nèi)部水、氣、雜質(zhì)的影響；從而提高功率密度，降低內(nèi)阻，改善高頻特性；極大地提升了超級電容單體和模組的一致性及使用壽命等技術參數(shù)，同時生產(chǎn)效率數(shù)倍提高。

全自動超級電容真空干燥系統(tǒng)系統(tǒng)標準配置：

TE-ZGY全自動預熱爐4臺﹑TE-ZGL全自動真空干燥爐12臺﹑

TE-ZGC半自動真空周轉車2臺、TE-ZGJ全自動真空手套界面箱1臺。

     在半導體濕式清洗制程中，晶圓 (濕式) 清洗制程主要是希望藉由化學藥品與清洗設備，清除來自周遭環(huán)境所附著在晶圓表面的臟污，鎮(zhèn)江腐蝕，以達到半導體組件電氣特性的要求與可靠度。過去 RCA 多槽濕式清洗一直是晶圓清洗的主要技術，不過隨著近年來制程與清洗設備的演進，堿腐蝕機，不但在清洗制程中不斷產(chǎn)生新的技術，顯影腐蝕臺，也隨著半導體后段封裝技術的演進，清洗設備也逐漸進入封裝廠的生產(chǎn)線中。

清洗機應用在哪些領域？

清洗機的應用層面非常廣泛，在各行業(yè)有著不同的用途。

◆ 酒店行業(yè)：可清潔外墻、門廳臺階、玻璃幕墻、鍋爐房、廚房及設備、公共場所、停車場；

◆ 建筑行業(yè)：可用于建筑物外墻的三合土和石材表面翻新，并清潔混凝土攪拌站、有油污或頑固污跡的裝飾表面、紀念碑；

◆ 服務行業(yè)：可用于洗車場、停車場、廣場、工程車、攪拌車、水泥泵車、修理場地及發(fā)動機的清潔，并可疏通排水道。

◆ 飲食業(yè)：可除去罐裝線的雜質(zhì)、及清潔各種發(fā)酵池、酵母鍋、儲物罐、烤爐、攪拌罐、廠房地面、墻面、油污水垢；

◆ 石化行業(yè)：高壓水機可除油污水垢，可清潔鉆機平臺及設備、輸油管道、油廠生產(chǎn)設備、沒罐內(nèi)外部；

◆ 鐵路行業(yè)：可用于機車、站臺軌道、道溝、機車底盤及輪軸、沉積和油污和銹跡清潔；