超聲波清洗機(jī)的兩大分類

超聲波制作生器：超聲波清洗機(jī)用的超聲波制作生器，從使用的元器件種類梗概分電子管式的，可控硅式的和晶體管式的。近幾年來也曾發(fā)展到用大功率“功率模塊”的法子。其輸出功率從幾十瓦直到幾千瓦，任務(wù)頻率從15kHz—40kHzo 超聲波清洗機(jī)用的超聲波制作生器有以下本色：

(1)隨著清洗液深度不同，換能器共振頻率和阻抗變卦很大。然則理論批注，槽內(nèi)放進(jìn)過量清洗物后，根蒂底子上便梗概搖動在某一定數(shù)值上。

(2)通常來說，因為清洗負(fù)載轉(zhuǎn)變較小，梗概不申請冗雜的頻率踴躍跟蹤電路。

(3)適用超聲波制作生器，大多數(shù)采用大功率自激式反應(yīng)振蕩器。

      半導(dǎo)體水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導(dǎo)體分立器件和中、小規(guī)模集成電路中能夠完全代替?zhèn)鹘y(tǒng)半導(dǎo)體清洗工藝中使用的清洗液。

根據(jù)清洗媒介的不同，又可以分為濕式清洗和干式清洗：一般將在液體介質(zhì)中進(jìn)行的清洗稱為濕式清洗，淮安腐蝕，在氣體介質(zhì)中進(jìn)行的清洗稱為干式清洗．傳統(tǒng)的清洗方式大多為濕式清洗，而人們比較容易理解的干式清洗也就是吸塵器．但近年來，金屬腐蝕清洗，干式清洗發(fā)展迅速．如激光清 洗．紫外線清洗，等離子清洗、干冰清洗等，在高。精，尖工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域得到快速發(fā)展。

      在清洗工藝中，去除刻蝕后的光刻膠殘渣是半導(dǎo)體行業(yè)的一大技術(shù)難點(diǎn)，清洗腐蝕，尤其是經(jīng)過高濃度離子注入的光刻膠，注入的陽離子和光刻膠中的碳形成很強(qiáng)的化學(xué)鍵，使光刻膠表面高度交聯(lián)，形成一層高度致密、耐腐蝕的碳化硬殼，大大增加了光刻膠的去除難度。

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