EDI超純水設(shè)備壓力過(guò)高該如何是好？

EDI超純水設(shè)備壓力過(guò)高該如何是好？1、當(dāng)水壓過(guò)高時(shí)，電子純水設(shè)備，需及時(shí)進(jìn)行反洗。如果上部配水器孔很大，樹(shù)脂膨脹程度較大，容易使樹(shù)脂從上端進(jìn)入多路閥，導(dǎo)致樹(shù)脂泄漏?！　?、閥門異常會(huì)導(dǎo)致水指標(biāo)不穩(wěn)定。當(dāng)水壓過(guò)高時(shí)，多路閥的一側(cè)將形成無(wú)法計(jì)算的壓力，這也可能發(fā)生在閥板上。閥門運(yùn)行可能不順暢，或開(kāi)關(guān)時(shí)閥門不到位，導(dǎo)致水質(zhì)達(dá)不到預(yù)期效果。　　3、當(dāng)水壓過(guò)高，天津純水設(shè)備，需要重新注入鹽水時(shí)，EDI純水設(shè)備，需要向鹽罐注入大量水。高水位可能導(dǎo)致水溢出。

電子超純水設(shè)備讓電子行業(yè)遇“芯荒”心不慌

電子超純水設(shè)備讓電子行業(yè)遇“芯荒” 心不慌芯片的制造過(guò)程很復(fù)雜，從設(shè)計(jì)、生產(chǎn)再到封裝和測(cè)試，每一步都非常重要。在制造環(huán)節(jié)中要解決的問(wèn)題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一是電子電子超純水設(shè)備，可用于生產(chǎn)芯片清洗的超純水，而超純水的質(zhì)量直接影響到芯片的質(zhì)量。電子超純水設(shè)備采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度。超純水系統(tǒng)設(shè)備的脫鹽部件為反滲透膜組件、EDI系統(tǒng)和拋光混床，超純水系統(tǒng)設(shè)備通常由預(yù)處理部分，反滲透主機(jī)部分，后處理部分共同組成。　　電子超純水設(shè)備具有抗污染能力強(qiáng)、節(jié)能環(huán)保、產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內(nèi)無(wú)死水等優(yōu)勢(shì)

EDI超純水技術(shù)受歡迎的原因是什么？EDI超純水技術(shù)，也稱為連續(xù)電除鹽技術(shù)，是兩種成熟的水凈化技術(shù)——電滲析和離子交換技術(shù)的結(jié)合。在低能耗的條件下去除溶解鹽。運(yùn)行中無(wú)需化學(xué)再生，edi純水設(shè)備，出水電阻率高于混床出水，可達(dá)10-18.2MΩ.CM，達(dá)到國(guó)家電子級(jí)水I級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。EDI對(duì)一級(jí)反滲透出水電導(dǎo)率要求不高，進(jìn)水電導(dǎo)率在4-30us∕cm都能夠合格產(chǎn)水?？赡苄枰砑榆浕b置，以去除水中的鈣和鎂離子。如果電導(dǎo)率高，只需調(diào)整工作電流和用量(氯化鈉)，這是一項(xiàng)環(huán)保技術(shù)。EDI超純水技術(shù)中的離子交換樹(shù)脂不需要酸堿的化學(xué)再生，節(jié)省了大量的酸、堿和清洗用水，大大降低了勞動(dòng)強(qiáng)度。更重要的是，無(wú)廢酸堿排放，屬于非化學(xué)水處理系統(tǒng)。無(wú)需酸堿儲(chǔ)存和處理，無(wú)廢水排放。

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