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按照刻蝕工藝劃分,其主要分為干法刻蝕以及濕法刻蝕。由于干法刻蝕可以實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,符合現(xiàn)階段半導(dǎo)體制造的高集成度的需求,因此在小尺寸的先進(jìn)工藝中,基本采用干法刻蝕工藝,導(dǎo)致干法刻蝕機(jī)在半導(dǎo)體刻蝕市場中占據(jù)相對(duì)主流地位。而按照被刻蝕材料劃分,可以分為硅刻蝕、介質(zhì)刻蝕以及金屬刻蝕。目前由于下游的需求場景較多,介質(zhì)刻蝕機(jī)與硅刻蝕機(jī)的市場占比較高,成為市場主流。
現(xiàn)有的蝕刻片材質(zhì)有兩種,一為不銹鋼,一為銅。不銹鋼產(chǎn)品的外觀亮麗,且能制出很細(xì)致的細(xì)部線條,比較適合超細(xì)部的表現(xiàn),但因其硬度高,所以在切割及加工時(shí)較麻煩,而且無法用一般的烙鐵來焊接組合。銅的外觀不及不銹鋼的亮麗,但硬度低,很容易加工,可以用一般的烙鐵來焊接組合。
蝕刻片,是用一些激光切割或化學(xué)腐蝕等工藝在其表面上刻劃出模型零件圖案而制造出來的極薄金屬片,一般材質(zhì)有銅、不銹鋼和鍍膜的合金等。
一般作為模型的精細(xì)零件替換件或直接整體出售,售價(jià)較高。市面上通常作為模型輔助配件使用,需要一定的的技術(shù)水平來進(jìn)行拆件,二次加工。
目前已形成濕法清洗系統(tǒng) 刻蝕系統(tǒng)CDS系統(tǒng) 尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號(hào)的產(chǎn)品,廣泛直用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、分立器件、光電子器件、MEMS和太陽能電池等領(lǐng)域,以良好的產(chǎn)品和優(yōu)良的服務(wù)贏得了各界用戶的贊許和信賴。
主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、太陽能光伏設(shè)備、液晶濕制程設(shè)備、真空設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn)銷售。其經(jīng)營范圍:半導(dǎo)體清洗設(shè)備、太陽能光伏設(shè)備組裝、生產(chǎn)、設(shè)計(jì)、研發(fā)、銷售。
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