蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司，顯影，天道酬勤，顯影腐蝕機(jī)，商道酬信！精良的產(chǎn)品質(zhì)量是我們的根本，超客戶預(yù)期是我們的自我需求，顯影清洗機(jī)，真誠(chéng)守信是我們的原則，我們的目標(biāo)是提升中國(guó)濕制程設(shè)備制造水平和服務(wù)！

   蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司，我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、LED等行業(yè)及高等院校、研究所等等科技領(lǐng)域的生產(chǎn)和研發(fā)。

酸加氧化劑清洗:

　　酸加氧化劑清洗液配方為:HCI∶H2O2∶H2O=1∶5∶5~1∶10∶10，顯影清洗，可溶解堿金屬離子，并生成碳酸鹽和鋁、鐵及鎂之氫氧化物，另外鹽酸中氯離子與殘留金屬離子發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)形成易溶于水溶液的絡(luò)合物，也可去除金屬污染物。一方面可以去除有機(jī)物污染，另外配合攪拌和超聲過(guò)程中形成的大量氣泡對(duì)表面大顆粒污染物產(chǎn)生較大沖擊力，使污染物脫離表面。

     半導(dǎo)體清洗機(jī)濕式清洗制程中，主要應(yīng)用項(xiàng)目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項(xiàng)。至于臟污的來(lái)源，不外乎設(shè)備本身材料產(chǎn)生、現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)員或制程工程師人體自身與動(dòng)作的影響、化學(xué)材料或制程藥劑殘留或不純度的發(fā)生，以及制程反應(yīng)產(chǎn)生物的結(jié)果，尤其是制程反應(yīng)產(chǎn)生物一項(xiàng)，更成為制程污染主要來(lái)源。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、pp/pvc通風(fēng)柜/廚、cds化學(xué)品集中供液系統(tǒng)解決方案.

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