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真空鍍膜應用

真空蒸鍍金屬是繼電鍍等表面處理法之后，根據對包裝和裝飾材料膜類的表面處理的需要而發(fā)展起來的一種頗具生命力的、可適用于多種被蒸鍍基材的表面處理工藝。1先采用的方法是將金屬加熱汽化后，昆山真空膜生產，再冷凝在基材上。工藝過程全部在抽成一定真空(例如其剩余壓力為標準大氣壓的1/1000000)的密閉容器中進行。另外，要求其被蒸鍍的基材表面必須極平整潔凈，使附著面積和附著力完全符合要求，以保證所鍍金屬制品的表面質量。

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真空鍍膜應用

目前有多種金屬可用作蒸鍍金屬的原材料，但是在包裝技術領域中用得廣、普遍、且有實用經濟價值的應首推鋁(具有高純度的鋁材)在直接真空蒸鍍法中的金屬鍍層厚度一般為0. 007一0. 008mm 。

近已開發(fā)的新一代的轉移法真空鍍金屬法中所蒸鍍的金屬厚度只有前者(直接法)的1/500左右(約為0. 000015mm )。過去國外以及目前國內大部采用直接法進行真空鍍金屬工藝，其缺點是耗金屬量相對較多;對基材的平整度和光潔度的要求也特別高;特別是制造所謂“鍍鋁紙”時，除對作為基材的紙張要求具有極1佳的平整、光潔度外，因紙含水量較多(10%左右)，在高真空和較高溫度下易失水變脆，使工藝更加復雜，產品成本也相應提高。

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真空鍍膜特點

編輯鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點：（1）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產速度可高達450m/min。（2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現和裂口，無揉曲龜裂現象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。

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