蝕刻氣體將氣體與襯底分離并從襯底中提取氣體?？展?。在相同條件下，氧等離子體處理比氮等離子體處理更有效。安等離子蝕刻技術，如果需要蝕刻，如果需要去除蝕刻后的污漬、浮渣、表面處理、等離子聚合、等離子灰化或其他蝕刻應用。附著力、焊接、印刷、涂裝、涂裝后道工序的附著力和良率?，F(xiàn)已成為材料表面性能處理的表面改性工具。

半導體設備在工藝過程中會產(chǎn)生反應熱或其他介質輻射、傳導的熱量。為保證工藝穩(wěn)定或安全考慮會選擇對腔體進行一定的溫度控

制。水因獲得容易，成本低，對環(huán)境無污染，換熱率高等優(yōu)點。通常用作加熱或冷卻的流體介質。以往的腔體水路多采用銅管或鋼管等通過導熱膠與腔體粘接。由于存在管壁材料、粘接材料及空氣夾層等多層介質間的熱傳導，顯影腐蝕臺，換熱效率較低。在加工能力提升的今天，顯影清洗機，逐漸更改為采用機加工或焊接等方式實現(xiàn)的流體介質直接與腔體接觸的水路方案。但在換熱效率提高的同時也帶來了新的問題。

清洗設備主要由耐腐蝕機架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制單元、 排風單元以及氣體和液體管路單元等幾大部分構成。其中酸槽和管路單元是清洗設備的主要組成部分。 按照材料的差異，營口顯影， 槽體可分為用不銹鋼材質的生產(chǎn)的槽、 用NPP 材質生產(chǎn)的抗腐蝕的槽、 用PVDF材質生產(chǎn)的槽、 用PTFE材質生產(chǎn)的槽、 用石英材質生產(chǎn)的槽等， 按照功能的差異槽體又可分為酸堿刻蝕槽、 溢流清洗槽、 快速排水槽和使晶圓快速干燥的干燥槽等， 根據(jù)清洗工藝要求的不同， 還可以增加腐蝕液的超聲及兆聲清洗、 腐蝕液加熱或制冷、攪拌、 循環(huán)及去離子水加熱等清洗功能

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