半導(dǎo)體水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類(lèi)高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導(dǎo)體分立器件和中、小規(guī)模集成電路中能夠完全代替?zhèn)鹘y(tǒng)半導(dǎo)體清洗工藝中使用的清洗液。

根據(jù)清洗媒介的不同，又可以分為濕式清洗和干式清洗：一般將在液體介質(zhì)中進(jìn)行的清洗稱(chēng)為濕式清洗，在氣體介質(zhì)中進(jìn)行的清洗稱(chēng)為干式清洗．傳統(tǒng)的清洗方式大多為濕式清洗，而人們比較容易理解的干式清洗也就是吸塵器．但近年來(lái)，干式清洗發(fā)展迅速．如激光清 洗．紫外線清洗，等離子清洗、干冰清洗等，在高。精，尖工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域得到快速發(fā)展。

不銹鋼原料的高壓清洗機(jī)高壓泵的優(yōu)點(diǎn)

（1）不銹鋼原料的機(jī)器設(shè)備外表存積著富含其它金屬元素的粉塵或許是雜類(lèi)金屬顆粒的附著物，在濕閏的空氣中，附著物與不銹鋼間的冷凝水珠水滴，把兩者連成一個(gè)微電池，金屬腐蝕清洗，引發(fā)了電化學(xué)反響，保護(hù)膜遭到電化學(xué)侵蝕損壞。

2）在不銹鋼外表粘附了有機(jī)物汁液，例如菜汁、面湯、痰液等，在有水氧情況下，就會(huì)構(gòu)成有機(jī)酸，在較長(zhǎng)時(shí)刻的效果下，就會(huì)構(gòu)成有機(jī)酸對(duì)金屬外表進(jìn)行侵蝕而變成生銹。

（3）在不銹鋼原料設(shè)備外表粘附富含酸、堿、鹽類(lèi)物質(zhì)，蘇州腐蝕，例如刷墻面的堿水、石灰水等，這也會(huì)引起部門(mén)的金屬被侵蝕而生銹。

清洗的注意事項(xiàng)：

(1) 設(shè)備運(yùn)行時(shí)，金屬腐蝕機(jī)，腔體內(nèi)必須放卡塞，晶圓腐蝕機(jī)，否則由于平衡破壞造成設(shè)備損壞或精度降低；

(2)晶片必須均勻放置在卡塞內(nèi)，盡量保證首尾重力平衡；

(3)卡塞放置在腔體內(nèi)時(shí)，片子正面應(yīng)朝向觀察窗一側(cè)；

(4)設(shè)備運(yùn)行中不得試圖打開(kāi)密封門(mén)蓋，否則會(huì)造成人體傷害或機(jī)器損壞。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、pp/pvc通風(fēng)柜/廚、cds化學(xué)品集中供液系統(tǒng)解決方案。我們的每臺(tái)設(shè)備除標(biāo)準(zhǔn)化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對(duì)設(shè)備進(jìn)行人性化、個(gè)性化設(shè)計(jì)，極大限度的將客戶的想法轉(zhuǎn)化為實(shí)際應(yīng)用。能完全滿足規(guī)?；a(chǎn)和研發(fā)需求。