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真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),洪梅氣相沉積設(shè)備,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備,其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
真空鍍膜機詳解
輔佐抽氣系統(tǒng)
此排氣系統(tǒng)選用“渙散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”構(gòu)成
排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA支配的低真空情況,L5000氣相沉積設(shè)備,為渙散泵后繼抽真空提供條件,今后當(dāng)渙散泵抽真空腔的時分,機械泵又協(xié)作油渙散泵構(gòu)成串聯(lián),以這樣的方法結(jié)束抽氣動作。
排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分,首要有由機械泵、增壓泵(首要介紹羅茨泵)、油渙散泵三大部分構(gòu)成。
真空鍍膜機是由真空爐體,H750氣相沉積設(shè)備,真空泵,H1050氣相沉積設(shè)備,控制柜,真空計,冷卻系統(tǒng)等部件組成,真空驢體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。
根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型真空鍍膜機,其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
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