半導(dǎo)體器件有許多封裝型式，從DIP、SOP、QFP、PGA、BGA到CSP再到SIP，晶圓清洗設(shè)備，技術(shù)指標(biāo)一代比一代先進(jìn)，這些都是前人根據(jù)當(dāng)時(shí)的組裝技術(shù)和市場(chǎng)需求而研制的。總體說(shuō)來(lái)，它大概有三次重大的革新：在上世紀(jì)80年代從引腳插入式封裝到表面貼片封裝，極大地提高了印刷電路板上的組裝密度；第二次是在上世紀(jì)90年代球型矩正封裝的出現(xiàn)，它不但滿足了市場(chǎng)高引腳的需求，晶圓腐蝕，而且大大地改善了半導(dǎo)體器件的性能；晶片級(jí)封裝、系統(tǒng)封裝、芯片級(jí)封裝是現(xiàn)在第三次革新的產(chǎn)物，其目的就是將封裝減到小

濕法刻蝕：用液體化學(xué)劑去除襯底表面的材料。早期普遍使用，在 3um 以后由于線寬控 制、刻蝕方向性的局限，主要用干法刻蝕。目前，濕法刻蝕仍用于特殊材料層的去除和 殘留物的清洗。干法刻蝕：常用等離子體刻蝕，也稱等離子體刻蝕，即把襯底暴露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離 子，與暴露的表面材料發(fā)生物理反應(yīng)、化學(xué)反應(yīng)。

清洗槽（也叫酸槽/化學(xué)槽），主要有HF，常州晶圓，H2SO4，H2O2，HCL等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質(zhì)，去離子，去原子，晶圓清洗臺(tái)，后還有DI清洗。IPA是，就是工業(yè)酒精，是用來(lái)clean機(jī)臺(tái)或parts的，是為了減少partical的。

3．1．3 金屬一陶瓷封裝它是以傳統(tǒng)多層陶瓷工藝為基礎(chǔ)，以金屬和陶瓷材料為框架而發(fā)展起來(lái)的。其特征是高頻特性好而噪音低而被用于微波功率器件，如微波毫米波二極管、微波低噪聲三極管、微波毫米波功率三極管。正因如此，它對(duì)封裝體積大的電參數(shù)如有線電感、引線電阻、輸出電容、特性阻抗等要求苛刻，故其成品率比較低；同時(shí)它必須很好地解決多層陶瓷和金屬材料的不同膨脹系數(shù)問(wèn)題，這樣才能保證其可靠性。金屬一陶瓷封裝的種類有分立器件封裝包括同軸型和帶線型；單片微波集成電路(MMIC)封裝包括載體型、多層陶瓷型和金屬框架一陶瓷絕緣型。

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