清洗機(jī)設(shè)備

平制造工程和制造工藝

      作為LCD制造工藝有代表性的清洗處理有以下幾類：

      1）白玻璃基板清洗

      2）刻蝕處理后的清洗

      3）屏組裝工程的清洗

            摩擦后清洗

            US氣吹

            屏清洗裝置

            清洗檢測(cè)裝置

      4）其他相關(guān)的附帶清洗裝置

            邊框膠印刷用版的清洗

            夾具的清洗

            彩膜的清洗

            掩膜版的清洗

            取向膜剝離清洗

            卷揚(yáng)干燥機(jī)

            IPA蒸氣干燥機(jī)

            旋轉(zhuǎn)

清洗設(shè)備是指可用于替代人工來清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機(jī)械設(shè)備。目前市面上所見到清洗設(shè)備為：超聲波清洗、高壓噴淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及復(fù)合型清洗設(shè)備等；

注意事項(xiàng)

1·當(dāng)操作高壓清洗機(jī)時(shí)：始終需戴適當(dāng)?shù)淖o(hù)目鏡，手套和面具。

2·始終讓保持手和腳不接觸清洗噴嘴。

3·經(jīng)常要檢查所有的電接頭。

4·經(jīng)常檢查所有的液體。

5·經(jīng)常檢查軟管是否有裂縫和泄漏處。

6·當(dāng)未使用時(shí)，顯影腐蝕臺(tái)，總是需將設(shè)置處于安全鎖定狀態(tài)。

7·總是盡可能地使用*低壓力來工作，但這個(gè)壓力要能足以完成工作。

8·在斷開軟管連接之前，顯影清洗機(jī)，總是要先釋放掉清洗機(jī)里的壓力。

9·每次使用后總是要排干凈軟管里的水。

10·決不要將設(shè)備對(duì)著自己或其他人。

11·在檢查所有軟管接頭都已在原位鎖定之前，決不要啟動(dòng)設(shè)備。

12·在接通供應(yīng)水并讓適當(dāng)?shù)乃鬟^之前，決不要啟動(dòng)設(shè)備。然后將所需要的清洗噴嘴連接到噴桿上。

注意：不要讓高壓清洗機(jī)在運(yùn)轉(zhuǎn)過程中處于無人監(jiān)管的狀態(tài)。每次當(dāng)你釋放時(shí)泵將運(yùn)轉(zhuǎn)在旁路模式下，顯影腐蝕機(jī)，如果一個(gè)泵已經(jīng)在旁路模式下運(yùn)轉(zhuǎn)了較長時(shí)間后，泵里循環(huán)水的過高溫度將縮短泵的使用壽命甚至損壞泵。所以，蘇州顯影，應(yīng)避免使設(shè)備長時(shí)間運(yùn)行在旁路模式。

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、xi菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種。

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