RCA清洗法：依靠溶劑、酸、表面活性劑和水，在不破壞晶圓表面特征的情況下通過噴射、凈化、氧化、蝕刻和溶解晶片表面污染物、有機(jī)物及金屬離子污染。在每次使用化學(xué)品后都要在超純水（UPW）中清洗。以下是常用清洗液及作用。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司精良的產(chǎn)品質(zhì)量是我們的根本，超客戶預(yù)期是我們的自我需求，分立器件酸洗機(jī)，真誠(chéng)守信是我們的原則，我們的目標(biāo)是提升中國(guó)濕制程設(shè)備制造水平和服務(wù)者！

    隨著工業(yè)自動(dòng)化的進(jìn)步和勞動(dòng)力成本的增加，鄂爾多斯分立器件，干冰清洗設(shè)備下業(yè)進(jìn)入新一輪景氣周期從而帶來干冰清洗設(shè)備市場(chǎng)需求的膨脹，干冰清洗設(shè)備行業(yè)的銷售回升明顯，供求關(guān)系得到改善，行業(yè)盈利能力穩(wěn)步提升。同時(shí)，在國(guó)家“十二五”規(guī)劃和產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整的大方針下，干冰清洗設(shè)備面臨巨大的市場(chǎng)投資機(jī)遇，行業(yè)有望迎來新的發(fā)展契機(jī)。

    與噴鋼砂，噴玻璃砂，噴塑料砂和噴蘇打相似，分立器件腐蝕設(shè)備，干冰噴射介質(zhì)干冰顆粒在高壓氣流中加速，沖擊要清洗的表面。干冰清洗的特別之處在于干冰顆粒在沖擊瞬間氣化。干冰顆粒的動(dòng)量在沖擊瞬間消失。干冰顆粒與清洗表面間迅速發(fā)生熱交換。致使固體CO2迅速升華變?yōu)闅怏w。干冰顆粒在千分之幾秒內(nèi)體積膨脹近800倍，這樣就在沖擊點(diǎn)造成“微型·”。由于CO2揮發(fā)掉了，干冰清洗過程沒有產(chǎn)生任何二次廢物，留下需要收集清理的只是清除下來的污垢。

      晶圓清洗是半導(dǎo)體制造典型工序中常應(yīng)用的加工步驟。就硅來說，分立器件酸洗設(shè)備，清洗操作的化學(xué)制品和工具已非常成熟，有多年廣泛深入的研究以及重要的工業(yè)設(shè)備的支持。所以，硅清洗技術(shù)在所有具實(shí)際重要性的半導(dǎo)體技術(shù)中是為成熟的。di一個(gè)完整的、基于科學(xué)意義上的清洗程序在1970年就提出了，這是專門設(shè)計(jì)用于清除Si表面的微粒、金屬和有機(jī)污染物。

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