清洗操作的注意事項(xiàng)：

     在清洗機(jī)內(nèi)作業(yè)時(shí)，宿遷腐蝕，打開(kāi)機(jī)器的通風(fēng)設(shè)備，半導(dǎo)體腐蝕設(shè)備，關(guān)閉外窗門，以防止氣體擴(kuò)散到清洗間，污染樣品，損害操作人員健康； 保持清洗機(jī)內(nèi)的清潔衛(wèi)生，不擺放除超聲設(shè)備、燒杯、花籃以外的其他設(shè)備。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司的每臺(tái)設(shè)備除標(biāo)準(zhǔn)化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對(duì)設(shè)備進(jìn)行人性化、個(gè)性化設(shè)計(jì)，極大限度的將客戶的想法轉(zhuǎn)化為實(shí)際應(yīng)用。能完全滿足規(guī)?；a(chǎn)和研發(fā)需求。 天道酬勤，商道酬信！精良的產(chǎn)品質(zhì)量是我們的根本，半導(dǎo)體腐蝕臺(tái)，超客戶預(yù)期是我們的自我需求，真誠(chéng)守信是我們的原則，我們的目標(biāo)是提升中國(guó)濕制程設(shè)備制造水平和服務(wù)！

     RCA清洗法：依靠溶劑、酸、表面活性劑和水，在不破壞晶圓表面特征的情況下通過(guò)噴射、凈化、氧化、蝕刻和溶解晶片表面污染物、有機(jī)物及金屬離子污染。在每次使用化學(xué)品后都要在超純水（UPW）中清洗。以下是常用清洗液及作用。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司精良的產(chǎn)品質(zhì)量是我們的根本，超客戶預(yù)期是我們的自我需求，清洗腐蝕臺(tái)，真誠(chéng)守信是我們的原則，我們的目標(biāo)是提升中國(guó)濕制程設(shè)備制造水平和服務(wù)者！

     半導(dǎo)體清洗機(jī)濕式清洗制程中，主要應(yīng)用項(xiàng)目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項(xiàng)，晶圓 (濕式) 清洗制程主要是希望藉由化學(xué)藥品與清洗設(shè)備，清除來(lái)自周遭環(huán)境所附著在晶圓表面的臟污，以達(dá)到半導(dǎo)體組件電氣特性的要求與可靠度。

蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)pp/pvc通風(fēng)柜/廚、cds化學(xué)品集中供液系統(tǒng)解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、led等行業(yè)及高等院校、研究所等等科技領(lǐng)域的生產(chǎn)和研發(fā)。