NH4Cl濃度對蝕刻的影響：從溶液再生的化學(xué)反應(yīng)式可以看出，[Cu(NH3)2]-的再生過程需要有大量的NH3-H2O和NH4Cl的存在，如果蝕刻機藥液缺乏NH4Cl，將使[Cu(NH3)2]-得不到再生，智能電蝕刻機加盟，蝕刻速度就會降低，以至于失去蝕刻能力。所以，NH4Cl的含量對蝕刻速度影響很大。但是，溶液中Cl-含量過高會引起抗蝕層侵蝕，一般濃度控制在150g/L左右為宜。

溫度對蝕刻速度的影響：當(dāng)蝕刻溫度低于40℃時，蝕刻速度很慢，而蝕刻速率過慢會增大側(cè)蝕量，影響蝕刻精度。溫度高于60℃，蝕刻速率明顯加快，但氨的揮發(fā)量也大大增加，導(dǎo)致環(huán)境污染的同時使溶液中化學(xué)成分比例失調(diào)，故一般蝕刻機工作溫度控制在45℃~55℃為宜。

金屬蝕刻工藝流程和別的工藝流程一樣也是有其本身的特性，僅有對金屬蝕刻工藝流程的特性有一個充足的了解，才可以設(shè)計出所必須的工藝流程。金屬蝕刻工藝流程的特性具體表現(xiàn)在目標(biāo)性、內(nèi)在性、性、動態(tài)、多樣性、結(jié)構(gòu)型、可執(zhí)行性、可管理性、可靠性、公信力和申請強制執(zhí)行性等10個層面，吉林電蝕刻機加盟，下邊五金蝕刻設(shè)備廠家就對于這種因素開展剖析探討。

說白了目標(biāo)性，便是根據(jù)某一工藝流程的整個過程有一個確立的輸出，換句話說要做到某一特殊的目地。針對金屬蝕刻來講，這一目地便是達到其設(shè)計工程圖紙對商品的規(guī)定。更具體地說，這種規(guī)定包含商品的蝕刻規(guī)格規(guī)定、經(jīng)蝕刻后的外表粗糙度規(guī)定等。

例如，針對裝飾設(shè)計主要用途的文圖蝕刻商品，歷經(jīng)所設(shè)計的工藝流程生產(chǎn)加工制做進行后所需做到的總體目標(biāo):①規(guī)定經(jīng)蝕刻后的文圖畫面質(zhì)量要高;②規(guī)定經(jīng)蝕刻后金屬材料外表粗糙度要合乎設(shè)計規(guī)定;③規(guī)定文圖的蝕刻深層要達到設(shè)計規(guī)定;④工件在蝕刻過程中所產(chǎn)生的變形要在設(shè)計要求的范疇以內(nèi);這些。

再如，針對構(gòu)造主要用途的商品，歷經(jīng)所設(shè)計的工藝流程生產(chǎn)加工制做進行后所需做到的總體目標(biāo):①經(jīng)蝕刻后的工件其蝕刻深層是不是在設(shè)計要求的尺寸公差范疇以內(nèi);②經(jīng)蝕刻后的工件其橫著蝕刻規(guī)格轉(zhuǎn)變后的具體規(guī)格是不是在設(shè)計要求的尺寸公差范疇以內(nèi)，③經(jīng)蝕刻后的工件外表粗糙度是不是達到設(shè)計規(guī)定這些。

在堿性真空蝕刻機中，溶液Cu2 濃度、PH值、NH4Cl濃度、NH3-H2O濃度以及溫度都會影響到蝕刻效率。掌握這些因素的影響才能有效的控制溶液，使之保持恒定的佳蝕刻狀態(tài)，從而得到滿意的蝕刻質(zhì)量。通過我們多年的實踐經(jīng)驗，得出以下結(jié)論，大功率電蝕刻機加盟，僅供參考：

Cu2 濃度對蝕刻速度的影響：在這種蝕刻液中，Cu2 是氧化劑，所以Cu2 的濃度對蝕刻機的蝕刻速度的影響占有重要因素。實際經(jīng)驗告訴我們，數(shù)碼電蝕刻機加盟，Cu2 濃度在0g/L~82.5g/L時，蝕刻速度很慢；在82.5g/L~135g/L時蝕刻速度較低，且控制困難；在135g/L~165g/L時，蝕刻速度高且溶液穩(wěn)定；在165g/L~225g/L時，溶液不穩(wěn)定，趨向于產(chǎn)生沉淀。

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