蝕刻設(shè)備的選擇

不管采用什么樣的蝕刻方法，都少不了與之配套的蝕刻設(shè)備，對(duì)于噴淋式蝕刻，需要購(gòu)買合適的蝕刻機(jī)，蝕刻機(jī)傳輸式的蝕刻機(jī)也有非傳輸式噴射蝕刻機(jī)，自動(dòng)鹽水電離腐蝕機(jī)設(shè)備，傳輸式蝕刻機(jī)適用于批量生產(chǎn)，非傳輸式噴射蝕刻機(jī)適用于中小規(guī)模的生產(chǎn)，這種類型的蝕刻機(jī)一般都難以自制，而必須去設(shè)備廠定做或者在設(shè)備市場(chǎng)購(gòu)買，蝕刻機(jī)選擇的原則主要由生產(chǎn)量決定，這里所指的生產(chǎn)量是指可以預(yù)計(jì)一段時(shí)間內(nèi)的平均日產(chǎn)量。

如果采用浸泡式蝕刻就需要一定體積的蝕刻槽，蝕刻槽體的材料根據(jù)蝕刻液的性質(zhì)而定，對(duì)于堿性蝕刻，大多采用不銹鋼材料，并要注意有保溫裝置，對(duì)于酸性蝕刻體系，可采用 PP材質(zhì)制作，對(duì)于大型的蝕刻槽可以采用不銹鋼加內(nèi)襯軟PP材料制作。

zui近光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直都是當(dāng)前zui熱的話題，可以說(shuō)光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，要想制造的芯片，這兩個(gè)東西都必須。    這倆機(jī)器zui簡(jiǎn)單的解釋就是光刻機(jī)把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面，刻蝕機(jī)再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉，這樣看起來(lái)似乎沒(méi)什么難的，但是有一個(gè)形象的比喻，每一塊芯片上面的電路結(jié)構(gòu)放大無(wú)數(shù)倍來(lái)看比整個(gè)北京都復(fù)雜，這就是這光刻和蝕刻的難度。    光刻的過(guò)程就是現(xiàn)在制作好的硅圓表面涂上一層光刻膠（一種可以被光腐蝕的膠狀物質(zhì)），接下來(lái)通過(guò)光線（工藝難度紫外光＜深紫外光＜極紫外光）透過(guò)掩膜照射到硅圓表面（類似投影），因?yàn)楣饪棠z的覆蓋，照射到的部分被腐蝕掉，沒(méi)有光照的部分被留下來(lái)，這部分便是需要的電路結(jié)構(gòu)。    蝕刻分為兩種，一種是干刻，一種是濕刻（目前主流），顧名思義，濕刻就是過(guò)程中有水加入，將上面經(jīng)過(guò)光刻的晶圓與特定的化學(xué)溶液反應(yīng)，去掉不需要的部分，剩下的便是電路結(jié)構(gòu)了，延安自動(dòng)鹽水電離腐蝕機(jī)，干刻目前還沒(méi)有實(shí)現(xiàn)商業(yè)量產(chǎn)，其原理是通過(guò)等離子體代替化學(xué)溶液，自動(dòng)鹽水電離腐蝕機(jī)技術(shù)，去除不需要的硅圓部分。






腐蝕機(jī)為人工氣候環(huán)境“三防”（濕熱、鹽霧、霉菌）試驗(yàn)設(shè)備之一，是研究機(jī)械、工業(yè)、輕工電子、儀表等行業(yè)各種環(huán)境適應(yīng)性和可靠性的一種重要試驗(yàn)設(shè)備。    傳統(tǒng)的化學(xué)蝕刻機(jī)分為潑濺式腐蝕機(jī)、水平蝕刻機(jī)，然而在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，由于各種原因，蝕刻精度往往很難控制，容易產(chǎn)生測(cè)腐蝕現(xiàn)象；華誼智能科技通過(guò)市場(chǎng)的反饋和多年的蝕刻設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)，自動(dòng)鹽水電離腐蝕機(jī)機(jī)械設(shè)備，研發(fā)出一款反噴淋式轉(zhuǎn)盤蝕刻機(jī)（轉(zhuǎn)盤大小可定做），將工件夾在轉(zhuǎn)盤上，獨(dú)立搖擺噴架由下往上高壓噴淋，同時(shí)轉(zhuǎn)盤也自轉(zhuǎn)，這樣就避免了蝕刻液在工件表面的殘留，提高了蝕刻精度。    同時(shí)轉(zhuǎn)盤蝕刻機(jī)標(biāo)配：4KW立式耐酸泵、全壓過(guò)濾器、鈦合金加熱管、鈦合金水冷管、溫度顯示自動(dòng)加熱系統(tǒng)等等。




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