什么叫酸性蝕刻？

酸性蝕刻也叫氯化銅酸性蝕刻系統(tǒng)，通常使用于單面板蝕刻，多層板的內(nèi)層蝕刻或Tenting流程的外層蝕刻上，因這些制程都用干膜或液態(tài)感光油墨作為蝕刻阻劑，而這幾種感光材料相對(duì)而言均為耐酸不耐堿性的特性，故選用酸性蝕刻。

酸性蝕刻的種類：1.H2O2/HCI系列。2.NaCIO3/HCI系列。

酸性蝕刻制作流程：1、單面板：銅面前處理→印刷線路烘烤→固化酸性蝕刻→去膜2、內(nèi)層和外層（Tenting流程）：銅面前處理→壓膜→爆光→顯影→酸性蝕刻→去膜。

興之揚(yáng)吹風(fēng)機(jī)蝕刻不銹鋼網(wǎng)小編給大家介紹金屬蝕刻加工前的質(zhì)量驗(yàn)收規(guī)范：

（1）待金屬蝕刻來(lái)料數(shù)量應(yīng)符合產(chǎn)品交接單，并簽署產(chǎn)品交接手續(xù)。

（2）待金屬蝕刻工件應(yīng)附有金屬材料的牌號(hào)、熱處理狀態(tài)機(jī)成形方法。對(duì)于有特殊要求的工件應(yīng)提供與工件材料及加工方式完全一致的樣件。

（3）待金屬蝕刻工件必須符合產(chǎn)品技術(shù)要求、并附有相應(yīng)的產(chǎn)品樣圖、簽署完整的工藝文件及上道工序的質(zhì)量卡。

（4）待金屬腐蝕工件的表面應(yīng)無(wú)油漆。印跡、嚴(yán)重銹蝕及其他贓物，如銹蝕嚴(yán)重應(yīng)另附文件說(shuō)明原因和處理方法。

（5）待金屬腐蝕工件表面不允許有超過(guò)原材料標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的劃痕、碰傷、壓坑；不允許有超過(guò)產(chǎn)品樣圖規(guī)定的擦傷、壓傷及金屬或非金屬壓入物、裂紋軋痕等。對(duì)于非結(jié)構(gòu)低要求工件，如允許有上述表面缺陷應(yīng)在交接工藝工件上注明允許缺陷的內(nèi)容及程度。

（6）待金屬蝕刻工件需裝夾、吊掛的部位應(yīng)留有加工余量，如是已完成外形加工的工件，應(yīng)標(biāo)明在工件上可以裝夾、吊掛的位置。

（7）待金屬蝕刻工件上的機(jī)加工邊緣應(yīng)，沒(méi)有毛刺、銳邊應(yīng)倒圓角、無(wú)焊接飛濺物等。

（8）允許在腐蝕加工余量區(qū)域規(guī)定的其他位置上制作刻形用的基準(zhǔn)線、定位孔、沖眼及像限線，其尺寸應(yīng)附合工藝文件的規(guī)定。

（9）工件的毛胚及試樣的下料方向應(yīng)符合有關(guān)工藝文件的要求。

興之揚(yáng)蝕刻不銹鋼網(wǎng)片小編給大家介紹什么是氮化硅的濕式蝕刻:

氮化硅可利用加熱至180°C的磷酸溶液(85%)來(lái)進(jìn)行蝕刻(5)。其蝕刻速率與氮化硅的成長(zhǎng)方式有關(guān)，以電漿輔助化學(xué)氣相沉積方式形成之氮化硅，由于組成結(jié)構(gòu)(SixNyHz相較于Si3N4)較以高溫低壓化學(xué)氣相沉積方式形成之氮化硅為松散，因此蝕刻速率較快許多。

但在高溫?zé)崃姿崛芤褐泄庾枰讋兟洌虼嗽谧鞯鑸D案蝕刻時(shí)，通常利用二氧化硅作為屏蔽。一般來(lái)說(shuō)，氮化硅的濕式蝕刻大多應(yīng)用于整面氮化硅的剝除。對(duì)于有圖案的氮化硅蝕刻，還是采用干式蝕刻為宜。