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平面圖彈是運(yùn)用于高精密電子器件通信.學(xué).電子光學(xué).地質(zhì)勘探及其電動(dòng)機(jī)等領(lǐng)域的高精密零部件,也稱平面圖彈簧。一般選用薄厚較薄的金屬原材料開(kāi)展生產(chǎn)加工,有不銹鋼板和合金銅的材料。由于生產(chǎn)加工原材料較薄,非常容易形變,因而一般會(huì)挑選蝕刻機(jī)生產(chǎn)加工開(kāi)展制做。選用金屬有機(jī)化學(xué)蝕刻開(kāi)展生產(chǎn)加工的平面圖彈,高精度,不會(huì)改變。金屬蝕刻中,蝕刻液的濃度值.溫度.純凈度都是會(huì)危害零件蝕刻加工的精密度,為了更好地獲得達(dá)標(biāo)的,優(yōu)良的蝕刻加工實(shí)際效果與生產(chǎn)制造合格率,提議加工廠家每月少開(kāi)展一次金屬蝕刻液清槽。
實(shí)際金屬蝕刻液清槽工藝流程如下所示:
1.將蝕刻加工槽內(nèi)的金屬蝕刻液抽出來(lái)過(guò)慮儲(chǔ)放于密封器皿內(nèi)。
2.槽內(nèi)加水﹐并運(yùn)行蝕刻加工馬達(dá)循環(huán)系統(tǒng)約10min。
3.將槽內(nèi)的液態(tài)排出掉。
4.加水再添加HCl10%水溶液﹐運(yùn)行蝕刻加工馬達(dá)循環(huán)系統(tǒng)約30min。
5.排出來(lái)四流程的液態(tài)。
6.加水并運(yùn)行蝕刻加工馬達(dá)循環(huán)系統(tǒng)約10min。
7.將槽液排出掉。
8.加水加上3-5%或子液中合﹐并運(yùn)行蝕刻加工馬達(dá)循環(huán)系統(tǒng)約30min。
9.將槽液排出掉。
10.加水并運(yùn)行蝕刻加工馬達(dá)循環(huán)系統(tǒng)約10min。
11.將槽液排出掉。
12.添加新的金屬蝕刻液。
蝕刻速率:蝕刻速率慢會(huì)造成嚴(yán)重側(cè)蝕。蝕刻質(zhì)量的提高與蝕刻速率的加快有很大關(guān)系。蝕刻速度越快,板子在蝕刻液中停留的時(shí)間越短,側(cè)蝕量越小,蝕刻出的圖形清晰整齊。
4)蝕刻液的PH值:堿性蝕刻液的PH值較高時(shí),側(cè)蝕增大。峁見(jiàn)圖10-3為了減少側(cè)蝕,一般PH值應(yīng)控制在8.5以下。
5)蝕刻液的密度:堿性蝕刻液的密度太低會(huì)加重側(cè)蝕,見(jiàn)圖10-4,自動(dòng)激光蝕刻機(jī)加盟,選用高銅濃度的蝕刻液對(duì)減少側(cè)蝕是有利的.
6)銅箔厚度:要達(dá)到側(cè)蝕的細(xì)導(dǎo)線的蝕刻,采用(超)薄銅箔。而且線寬越細(xì),自動(dòng)激光蝕刻機(jī)供應(yīng)商,
銅箔厚度應(yīng)越薄。因?yàn)椋~箔越薄在蝕刻液中的時(shí)間越短,側(cè)蝕量就越小。
我們?cè)趹?yīng)用是蝕刻加工的過(guò)程中必須 使用感光油墨,那麼它的應(yīng)用常見(jiàn)問(wèn)題是什么呢?下面五金蝕刻設(shè)備廠家?guī)Т蠡飪阂黄鹆私庖幌挛g刻加工時(shí)感光油墨的應(yīng)用常見(jiàn)問(wèn)題。
感光油墨在蝕刻加工前應(yīng)用的全過(guò)程中需要留意的現(xiàn)象主要有以下幾個(gè)方面:
1.烘干處理濕度和時(shí)間:為了更好地做到施膠的實(shí)際效果,在施膠時(shí)會(huì)在感光油墨中加上一定量的做為稀釋液來(lái)調(diào)節(jié)粘度,這類油漆稀釋劑不參加化學(xué)變化因此在施膠到金屬表層以后,必須 將其清除整潔,根據(jù)循環(huán)系統(tǒng)熱風(fēng)烤箱和出風(fēng)道將油墨中的油漆稀釋劑消除。把握烘干處理濕度和烘干處理的時(shí)間就顯得極其重要了。
2.應(yīng)用合理的感光燈源:紫外線是油墨顯像的本質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),若燈源光波長(zhǎng)并不是紫外線的范疇,感光油墨則不消化吸收,紫外線才可以使感光油墨造成化學(xué)變化,因?yàn)槠爻鰰r(shí),聚脂片或是夾層玻璃會(huì)消化吸收300nm下列的紫外線,因此需要應(yīng)用300nm之上的強(qiáng)燈源。
3.顯影的溫度和時(shí)間:感光油墨主要是環(huán)氧樹(shù)脂成份,環(huán)氧樹(shù)脂則具備吸水性,在堿溶液時(shí)溶解度比較好,能夠應(yīng)用1%-1.5%的碳酸鉀溶液顯影,將沒(méi)有感光反映的油墨融解。顯影全過(guò)程中,溫度對(duì)油墨融解的進(jìn)程危害比較大,南充自動(dòng)激光蝕刻機(jī),因此提升顯影溫度對(duì)顯影速率比遞交碳酸鉀溶液濃度值會(huì)快許多,顯影液的溫控在30-34°C,顯影時(shí)間把控在15-32min中間
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