【廣告】
噴淋式蝕刻、速度快、精度高,適合于有一定批量的生產(chǎn),生產(chǎn)易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制,但是設(shè)備投入大,同時(shí)也不適宜對(duì)異形工件及大型工件的蝕刻;侵泡式蝕刻設(shè)備投入小,蝕刻(化學(xué)蝕刻)方便,使用工件范圍廣。
工件形狀及大?。?/p>
對(duì)于大型工件由于受設(shè)備限制,采用噴淋式蝕刻難于進(jìn)行,而侵泡式就不會(huì)受工件大小的影響。工件形狀復(fù)雜,在噴淋時(shí)有些部位會(huì)出現(xiàn)噴淋不到位的情況而影響蝕刻的正常進(jìn)行,而侵泡式由于是將工件整個(gè)侵泡在蝕刻液中,只要保持溶液和工件之間的動(dòng)態(tài),就能保證異性工件的各個(gè)部位都能充滿(mǎn)蝕刻液并進(jìn)行新液與舊液的連續(xù)更換,使蝕刻能正常進(jìn)行。
對(duì)于不大的平面或近乎平面的工件如果條件允許,鈦金電腐蝕蝕刻機(jī)機(jī)械設(shè)備,采用噴淋式蝕刻不管是效率或是精度都優(yōu)于侵泡式蝕刻。所以,對(duì)于批量大、工件大小適中、形狀簡(jiǎn)單的平面形狀的工件以采用噴淋式為;如果工件外形較大,難以采用蝕刻機(jī),工件形狀復(fù)雜,批量不大,這式以采用侵泡式為宜。
或許在很多人看來(lái),刻蝕技術(shù)并不如光刻機(jī)那般“”,但刻蝕在芯片的加工和生產(chǎn)過(guò)程中同樣不可或缺??涛g機(jī)主要工作是按照前段光刻機(jī)“描繪”出來(lái)的線路來(lái)對(duì)晶片進(jìn)行更深入的微觀雕刻,刻出溝槽或接觸孔,然后除去表面的光刻膠,從而形成刻蝕線路圖案。
在芯片制造領(lǐng)域,聊城電腐蝕蝕刻機(jī)機(jī)械設(shè)備,光刻機(jī)像是前端,而蝕刻機(jī)就是后端。光刻機(jī)的作用是把電路圖描繪至覆蓋有光刻膠的硅片上,而蝕刻機(jī)的作用就是按照光刻機(jī)描繪的電路圖把硅片上其它不需要的光刻膠腐蝕去除,完成電路圖的雕刻轉(zhuǎn)移至硅片表面。兩者一個(gè)是設(shè)計(jì)者,一個(gè)是執(zhí)行者,整個(gè)芯片生產(chǎn)過(guò)程中,需要重復(fù)使用兩種設(shè)備,直至將完整的電路圖蝕刻到硅晶圓上為止。
目前,我國(guó)在蝕刻機(jī)領(lǐng)域已達(dá)到世界先進(jìn)水平,尤其是中微半導(dǎo)體成功突破研制的5nm蝕刻機(jī)已于其它企業(yè),小型電腐蝕蝕刻機(jī)機(jī)械設(shè)備,而且得到了臺(tái)積電的驗(yàn)證。真正面臨技術(shù)挑戰(zhàn),也是被卡脖子的領(lǐng)域是光刻機(jī)。不過(guò)日前中科院院長(zhǎng)白春禮表示,已將光刻機(jī)等技術(shù)難度較高的產(chǎn)品列入科研清單,未來(lái)將集中力量對(duì)這些“卡脖子”的技術(shù)進(jìn)行攻關(guān)。相信未來(lái)光刻機(jī)技術(shù)也會(huì)實(shí)現(xiàn)重大突破。
以不銹鋼US304的浸蝕生產(chǎn)加工為主導(dǎo)蝕刻機(jī)中加上有機(jī)化學(xué)蝕刻液為:三氯化鐵化學(xué)方程式:FeCl3=FeCl3·6H2O一.蝕刻液好標(biāo)準(zhǔn)波美度:38°—42°藥液溫度:45°—50°PH值測(cè)量區(qū)段:1PH-3PH氧化物FeCl3二.水反映全過(guò)程三氯化鐵蝕刻液對(duì)不銹鋼的蝕刻是一個(gè)“空氣氧化---復(fù)原”全過(guò)程:1.氧化還原反應(yīng):2FeCl3 Fe=3FeCl2三氯化鐵 不銹鋼 水=氯化亞鐵 家具板材蝕刻制成品 水 不銹鋼殘?jiān)?藥液降低的緣故及復(fù)原方法伴隨著化學(xué)變化的開(kāi)展,蝕刻液減少,是由于三氯化鐵空氣氧化變成氯化亞鐵,這時(shí)必須將氯化亞鐵轉(zhuǎn)變成三氯化鐵提升藥液酸堿性。需添加溶液(氧化劑)﹑硫酸(緩聚劑)
企業(yè): 濟(jì)南藍(lán)光同茂科技有限公司
手機(jī): 13573785046
電話: 0531-00000000
地址: 濟(jì)南市濟(jì)微路中段