曝光顯影光刻十步法：

表面準(zhǔn)備—涂光刻膠—軟烘焙—對(duì)準(zhǔn)和曝光—顯影—硬烘焙—顯影目測(cè)—刻蝕—光刻膠去除—終目檢；

基本的光刻膠化學(xué)物理屬性：

a、組成：聚合物 溶劑 感光劑 添加劑

普通應(yīng)用的光刻膠被設(shè)計(jì)成與紫外線(xiàn)和激光反應(yīng)，它們稱(chēng)為光學(xué)光刻膠，保溫杯曝光顯影公司，還有其它光刻膠可以與X射線(xiàn)或者電子束反應(yīng)；負(fù)膠 亮場(chǎng)或正膠 暗場(chǎng)形成空穴； 負(fù)膠 暗場(chǎng)或正膠 亮場(chǎng)形成凸起

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用化學(xué)顯影液溶解光刻膠經(jīng)過(guò)曝光后可溶解區(qū)域的過(guò)程稱(chēng)為顯影，其主要目的是將光刻板上的圖形用光刻膠地到晶圓片上，即溶解掉不需要的光刻膠，從而在光刻膠膜上獲得所需要的圖形。光刻膠被顯影液溶解后再用去離子水清洗晶圓片表面并旋轉(zhuǎn)甩干。為了獲得良好的顯影效果，有些廠家也采用多次旋覆浸沒(méi)的辦法。相對(duì)傳統(tǒng)顯影方式而言，旋覆浸沒(méi)顯影的每一片晶圓使用的都是新的顯影液，提高了晶圓片間的均勻性，保溫杯曝光顯影工廠，并且旋覆浸沒(méi)顯影減小了溫度的影響，實(shí)現(xiàn)了對(duì)顯影均勻性的良好控制。保溫杯曝光顯影

顯影問(wèn)題

如果不能正確地控制顯影工藝，圖形傳遞的度就會(huì)出現(xiàn)問(wèn)題，這些光刻膠的圖形問(wèn)題，如未能及時(shí)檢出，保溫杯曝光顯影，傳遞到后續(xù)的刻蝕或者去膠工序中，就會(huì)對(duì)產(chǎn)品產(chǎn)生明顯的不良影響。顯影液中還會(huì)添加表面活性劑，用以減小表面張力，改善顯影效果。

常見(jiàn)的顯影問(wèn)題有3類(lèi)，分別是顯影不足、不完全顯影和過(guò)顯影。從外觀上看，顯影不足的線(xiàn)條比正常線(xiàn)條要寬，并且側(cè)面有斜坡；

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