曝光顯影參數(shù)：在顯影過(guò)程中有一些關(guān)鍵參數(shù)是必須被關(guān)注的，這些參數(shù)包括顯影溫度、顯影時(shí)間、顯影液量、當(dāng)量濃度、排風(fēng)及清洗等。顯影溫度。顯影液的佳工作溫度是 15～25℃。其溫度確定后，佛山標(biāo)牌曝光顯影，一般要求溫度誤差在±1℃（不嚴(yán)格的可以在±2℃）。顯影時(shí)間。在光刻膠表面的顯影液被清洗之前，標(biāo)牌曝光顯影工藝，顯影液一直在和光刻膠進(jìn)行反應(yīng)。顯影程度隨顯影時(shí)間的增加而變化。標(biāo)牌曝光顯影

顯影問(wèn)題

如果不能正確地控制顯影工藝，圖形傳遞的度就會(huì)出現(xiàn)問(wèn)題，這些光刻膠的圖形問(wèn)題，如未能及時(shí)檢出，傳遞到后續(xù)的刻蝕或者去膠工序中，標(biāo)牌曝光顯影加工，就會(huì)對(duì)產(chǎn)品產(chǎn)生明顯的不良影響。顯影液中還會(huì)添加表面活性劑，用以減小表面張力，改善顯影效果。

常見(jiàn)的顯影問(wèn)題有3類，分別是顯影不足、不完全顯影和過(guò)顯影。從外觀上看，顯影不足的線條比正常線條要寬，標(biāo)牌曝光顯影公司，并且側(cè)面有斜坡；

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用化學(xué)顯影液溶解光刻膠經(jīng)過(guò)曝光后可溶解區(qū)域的過(guò)程稱為顯影，其主要目的是將光刻板上的圖形用光刻膠地到晶圓片上，即溶解掉不需要的光刻膠，從而在光刻膠膜上獲得所需要的圖形。光刻膠被顯影液溶解后再用去離子水清洗晶圓片表面并旋轉(zhuǎn)甩干。為了獲得良好的顯影效果，有些廠家也采用多次旋覆浸沒(méi)的辦法。相對(duì)傳統(tǒng)顯影方式而言，旋覆浸沒(méi)顯影的每一片晶圓使用的都是新的顯影液，提高了晶圓片間的均勻性，并且旋覆浸沒(méi)顯影減小了溫度的影響，實(shí)現(xiàn)了對(duì)顯影均勻性的良好控制。標(biāo)牌曝光顯影


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