制氫設(shè)備，制氫設(shè)備廠家，制氫裝置

我國制氫均沿用合成氨的造氣工藝，流程長，制氫設(shè)備供應(yīng)廠家，工藝復(fù)雜，操作條件苛刻，裝置造價高，生產(chǎn)成本高。針對這一現(xiàn)狀，派瑞氣體設(shè)備公司在原合成氨造氣工藝基礎(chǔ)上對轉(zhuǎn)化爐、脫硫變換、熱量回收系統(tǒng)等進行了大膽改革，使裝置投資比老工藝大為減少，消耗也降低約1／3。

制氫的化學(xué)反應(yīng)式如下：

CH4 H2O→3H2 CO-Q

CO H2

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制氫應(yīng)該是和蒸汽按一定比例同時進。重整反應(yīng)通常條件為250-300℃，制氫設(shè)備供應(yīng)，1-5MPa，制氫設(shè)備采購供應(yīng)，H20與CH30H摩爾比為1.0-5.0。對催化劑影響不大。制氫有以下幾種工藝流程：分解、部分氧化和蒸汽重整。蒸汽重整制氫由于氫收率高(由反應(yīng)式可以看出其產(chǎn)物的氫氣組成可接近75%)，能量利用合理，過程控制簡單，制氫設(shè)備供應(yīng)采購，便于工業(yè)操作而更多地被采用。

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制氫設(shè)備，制氫，制氫設(shè)備廠家，氫氣在工業(yè)中有廣泛用途：人們利用氫氣可以從氧化合物中奪取氧的性質(zhì)，在冶金工業(yè)可以冶煉金屬。例如，在工業(yè)和民用工業(yè)上都很重要的金屬鎢、鉬等，就是利用氫氣煉制出來的。用氫氣冶煉金屬鎢的化學(xué)方程式如下：WO3 3H2=加熱△=3H2O W。電子工業(yè)可以利用氫氣來制取半導(dǎo)體材料——高純硅。

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