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鍍膜設備是一種用于材料科學領域的科學儀器,能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜,顯示屏真空鍍膜設備,且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。
真空鍍膜機是目前使用的真空條件下的真空設備。一般由真空室、真空單元和電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)由“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫陷阱 多冷”組成。
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,真空鍍膜設備,包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。真空鍍膜機對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,蒸發(fā)或濺射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機物,都可以氣相沉積各種金屬膜和介質膜,不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。
真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,玻璃真空鍍膜設備,包括真空離子蒸發(fā),電子真空鍍膜設備,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設備,其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
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