脈沖激光沉積系統(tǒng)的配置介紹

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)、銷(xiāo)售脈沖激光沉積，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

1.靶: 數(shù)量6個(gè)，脈沖激光沉積設(shè)備哪家好，大小1-2英寸，被激光照射時(shí)可自動(dòng)旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過(guò)步進(jìn)電機(jī)控制;

2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時(shí)基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境的壓力可達(dá)300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運(yùn)室:不銹鋼sus304材質(zhì)，脈沖激光沉積設(shè)備，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機(jī)械泵;

7.閥門(mén): 采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測(cè):真空計(jì);

9.氣路兩套: 采用氣體流量計(jì)控制;

10.薄膜生長(zhǎng)監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分RHEED;

11.監(jiān)控系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，脈沖激光沉積設(shè)備多少錢(qián)，靶的更換等;

12.各種電流導(dǎo)入及測(cè)溫端子;

13.其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺(tái)，脈沖激光沉積設(shè)備廠家，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等;

脈沖激光沉積系統(tǒng)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)

可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供的技術(shù)支持；靶臺(tái)可以安裝6個(gè)靶位，靶材更換靈活；樣品臺(tái)樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進(jìn)樣室可以存儲(chǔ)多個(gè)靶和樣品；交易過(guò)程無(wú)需繁瑣的進(jìn)、出關(guān)手續(xù)， 交貨期短，高；

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PLD 主要選件

離子輔助沉積 (IBAD)系統(tǒng)介紹

離子輔助沉積已經(jīng)成為在無(wú)規(guī)取向的基片或無(wú)定形基片上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開(kāi)發(fā)了離子輔助的PLD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢(shì)與IBAD 能力結(jié)合在一起。

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