雙色真空鍍膜機PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術(shù)的了解不是特別全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實際運用過程有哪些優(yōu)缺點?至成真空小編現(xiàn)在詳細和大家介紹一下:

真空鍍膜機PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機PVD技術(shù)其優(yōu)點是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

ITO真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)特點

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內(nèi)壁進行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨立門閥-插板閥隔開，能夠完成有用隔斷，安穩(wěn)技能氣體。現(xiàn)在咱們至成真空科技選用插板閥規(guī)劃，它比現(xiàn)在國內(nèi)通用的翻板閥密封作用非常好，更經(jīng)用。

3)傳動選用磁導(dǎo)向，確保傳動的安穩(wěn)性。整條出產(chǎn)線的各段速度選用變頻調(diào)速電機驅(qū)動，運轉(zhuǎn)速度可調(diào)理。

4)真空電鍍設(shè)備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動操控，人機對話辦法來完成體系的數(shù)據(jù)顯現(xiàn)、操作與操控

真空鍍膜機離子鍍是什么?

很多人聽說過離子真空鍍膜機，但是對于真空鍍膜機離子鍍了解甚少，離子鍍是一種鍍膜工藝中的一種，下面為大家詳細介紹一下：首先給大家它定義：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。

它的原理是：蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性Ar氣，在放電電場作用下部分Ar氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的Ar離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同Ar離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

它能分為四類：①磁控濺射離子鍍。②反應(yīng)離子鍍。③空心陰極放電離子鍍。④多弧離子鍍。

它的特點：鍍層附著性能好，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生；繞鍍能力強，因此這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫，等其他方法難鍍的部位；鍍層質(zhì)量好，離子真空鍍膜機鍍膜的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻；清洗過程簡化。