脈沖激光沉積系統(tǒng)的特點有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發(fā)源或濺射源

?  可旋轉的耐氧化基片加熱臺

?  流量計或針閥準確控制氣體流量

?  標準真空計?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進樣室

?  可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備

以上就是為大家介紹的全部內容，脈沖激光沉積裝置公司，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，脈沖激光沉積裝置報價，歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。

脈沖激光沉積簡介

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——脈沖激光沉積供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?/p>

【設備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質結，脈沖激光沉積裝置，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設備優(yōu)點】

設備全程采用一鍵式操作抽氣，關機，脈沖激光沉積裝置廠家，程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。

【設備主要組成】

設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成

PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司生產脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

技術指標：

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　

恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可實現公轉換靶位描等基片加熱可連續(xù)回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm可調。　　

二維掃描機械平臺，執(zhí)行兩自由度掃描，控制的內容主要有公轉換靶、靶自轉、樣品自轉、樣品控溫、激光束掃，

質量流量控制器1路　　

烘烤溫度：150℃數顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數顯自動熱偶控溫可加熱到800℃）

脈沖激光沉積裝置廠家-脈沖激光沉積裝置-沈陽鵬程有限公司由沈陽鵬程真空技術有限責任公司提供。脈沖激光沉積裝置廠家-脈沖激光沉積裝置-沈陽鵬程有限公司是沈陽鵬程真空技術有限責任公司今年新升級推出的，以上圖片僅供參考，請您撥打本頁面或圖片上的聯系電話，索取聯系人：董順。