什么樣的真空鍍膜層比較好真空磁控濺射鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)介紹

據(jù)了解，2012年真空鍍膜設備達43億，真空鍍膜商場在敏捷擴大，一同也反映出咱們的物品的請求與質量越來越高，為滿意消費者需求，許多需求對商品進行鍍膜的廠家都購買了真空鍍膜設備。真空鍍膜設備鍍膜細密，均勻，能夠讓廠商出產(chǎn)出來愈加美麗的，愈加經(jīng)用的的商品來適合商場。

咱們判別一款鍍膜設備的好壞首要是從以下幾個方面來說判別的。個方面是設備鍍膜是不是細密，是不是均勻。一個一款設備鍍膜細密，均勻，那么毋庸置疑這款設備即是一款十分好的設備，一款能夠遭到廠家期待的設備。鍍膜細密，均勻的設備能夠出產(chǎn)出來愈加美麗，愈加經(jīng)用的商品，美麗的，經(jīng)用的商品是消費者所喜愛的。已然消費者喜愛這類商品，那么廠家就會從商品中獲利。廠家就能夠商品中獲利，從鍍膜細密，均勻的商品中獲利，就自然會愈加的注重鍍膜細密，均勻的出產(chǎn)。會投入愈加的精力在出產(chǎn)鍍膜細密，均勻的商品上。而公司要出產(chǎn)出來鍍膜細密，均勻的商品就需求有一個能夠鍍膜細密，均勻的設備。所以從這一點上就能夠看出好的設備，鍍膜細密，均勻的設備才是廠家所需求的。

鍍膜有啥準則？

A：取穩(wěn)辟險寧可做欠好不行出問題

B：先輕后重細盤可拋好就不必粗盤

C：質效并重保質保量下合理優(yōu)化計劃

D：主次分明相對狀況下辨明主次方針清晰

E：不行胡來辦法竅門很首要

中頻磁控濺射鍍膜設備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹?。因此，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

真空電鍍設備的監(jiān)控方法1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準確，需要依靠經(jīng)驗。2、極值監(jiān)控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監(jiān)控波長（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。