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光學(xué)鍍膜機(jī)-鍍膜機(jī)-至成鍍膜機(jī)生產(chǎn)廠家

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發(fā)布時間:2021-10-12 02:04  








真空鍍膜機(jī)分類


真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備,其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方式,用戶可根據(jù)片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求,轉(zhuǎn)動的速度范圍及轉(zhuǎn)動精度:普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。



磁控真空鍍膜機(jī)做漸變色原理


現(xiàn)在很多物件都鍍有漸變色,顏色很絢麗也很顯目,現(xiàn)在很多牌子手機(jī)殼也應(yīng)用了這種漸變色,因此,漸變色也越來越受人們關(guān)注,漸變色制作原理也激起了大家的興趣,今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下真開工鍍膜機(jī)做漸變色的原理和方法,希望能幫助到大家。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設(shè)備,目前華為、聯(lián)想等多款手機(jī)漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)有產(chǎn)品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設(shè)備,一臺完整的磁控濺射真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的,每個系統(tǒng)可以完成不同的功能,從而實現(xiàn)終的鍍膜,磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機(jī)械泵、真空測試系統(tǒng)、油擴(kuò)散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等。


磁控濺射真空鍍膜機(jī)的主體是真空腔,真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定,磁控濺射鍍膜的大小能定制,腔體一般是用不銹鋼材料制作,要求結(jié)實耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式,比如固定鍍制時間、目測、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。真空鍍膜機(jī)、真空鍍膜設(shè)備鍍膜方式也分多種工藝,常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強(qiáng),膜層的純度高,可以同時濺射多種不同成分的材料。



多弧離子真空鍍膜機(jī)發(fā)展歷程及特點


20世紀(jì)70年代以來,隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展,對材料的綜合性能要求不斷提高,單一材料性能已經(jīng)不能滿足某些特征環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)通過物理作用,使基體表面沉積出薄膜,在美觀的同時又有效提高鍍件的物理化學(xué)性能,從而提高產(chǎn)品的使用壽命。離子鍍技術(shù)是當(dāng)今使用面廣、先進(jìn)的表面處理技術(shù)之一。據(jù)統(tǒng)計,國內(nèi)外已有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍技術(shù),特別適用于對耐磨性、耐腐蝕性有特殊要求的場合。80年代后期,國內(nèi)外相繼開發(fā)了離化效率更高的電弧放電真空離子鍍、多弧真空離子鍍等,使離子鍍技術(shù)進(jìn)入了一個新階段.

近年來,離子真空鍍膜機(jī)的自動化程度得到了較快發(fā)展,國外的設(shè)備采用智能一體化控制系統(tǒng),可計算和控制鍍膜過程中的基體溫度、氣體流量和靶電流等關(guān)鍵性參數(shù)。國內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)的自動化程度也有了一定的發(fā)展,但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和性方面尚需提升,設(shè)備依賴進(jìn)口。同時多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場存在供大于求的情況,價格競爭較為激烈。


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