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磁控濺射的工作原理
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磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用,產(chǎn)生E(電場(chǎng))×B(磁場(chǎng))所指的方向漂移,磁控濺射沉積設(shè)備公司,簡(jiǎn)稱(chēng)E×B漂移,其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于磁控濺射一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng),則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng),它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng),而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來(lái)轟擊靶材,從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加,二次電子的能量消耗殆盡,逐漸遠(yuǎn)離靶表面,并在電場(chǎng)E的作用下沉積在基片上。由于該電子的能量很低,傳遞給基片的能量很小,致使基片溫升較低。
磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程,和靶原子碰撞,把部分動(dòng)量傳給靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量,離開(kāi)靶被濺射出來(lái)。
小型自動(dòng)磁控濺射儀
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。
1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa
2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系統(tǒng)從大氣開(kāi)始抽氣:濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa;
4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5Pa
5. 濺射真空室1套,立式上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu),尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結(jié)構(gòu),弧焊接,表面進(jìn)行電化學(xué)拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)
6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測(cè)試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套,樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。基片加熱溫度:室溫—500°C連續(xù)可調(diào),由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套,磁控濺射沉積設(shè)備價(jià)格,包含:100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;
10. 抽氣機(jī)組及閥門(mén)、管道 1套,包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國(guó)普發(fā)Hipace700分子泵);1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S) ,1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),磁控濺射沉積設(shè)備,節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái);管道采用不銹鋼三通及波紋管,
11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。
磁控濺射鍍膜設(shè)備的主要用途
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1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。
2.時(shí)裝裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用,比如說(shuō)各種全反射鍍膜以及半透明鍍膜,可適用在手機(jī)外殼、鼠標(biāo)等產(chǎn)品上。
3.微電子行業(yè)領(lǐng)域中,其是一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用在化學(xué)氣象沉積上。
4.在光學(xué)領(lǐng)域中用途巨大,比如說(shuō)光學(xué)薄膜(如增透膜)、低輻射玻 璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。
5.在機(jī)械行業(yè)加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學(xué)穩(wěn)定性能,能夠延長(zhǎng)物品使用周期。
企業(yè): 沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司
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