離子鍍膜設(shè)備的操作規(guī)范是怎樣的？1、設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)符合GB/T6070的規(guī)定。2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時，應(yīng)在測量口處安裝電場屏蔽裝置。3、如果設(shè)備使用的主泵為擴散泵時，應(yīng)在泵的進氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱4、設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，應(yīng)設(shè)有擋板裝置。觀察窗應(yīng)能觀察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。5、離子鍍沉積源的設(shè)計應(yīng)盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結(jié)構(gòu)布局應(yīng)使被鍍工件溫升均勻一致。7、工件架應(yīng)與真空室體絕緣，工件架的設(shè)計應(yīng)使工件膜層均勻。8、離子鍍膜設(shè)備一般應(yīng)具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應(yīng)具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。

真空鍍膜機中鎢絲的注意事項：鎢在常溫下有較好的耐酸、堿能力，但在潮濕的空氣中易被氧化，所以細鎢絲不能在潮濕環(huán)境中貯存過久。另外鎢在1200℃上下就開始與碳起反應(yīng)生成鎢的碳化物，所以對燈絲的燒氫處理要注意這個問題，否則鎢與其表面的石墨潤滑劑起反應(yīng)，則燈絲就要變脆斷裂。鎢絲一旦經(jīng)高溫使用發(fā)生再結(jié)晶以后就變得很脆，在受沖擊或震動的情況下極易斷裂。在一些要求高可靠性的電光源產(chǎn)品中，為防止燈絲的斷裂，常在摻雜鎢絲中加入3～5％的錸，稱為鎢錸絲，它可以使鎢的延脆轉(zhuǎn)變溫度下降到室溫或室溫以下。這是一種很奇特的錸效應(yīng)，至今還未發(fā)現(xiàn)一種元素能代替錸，在鎢中產(chǎn)生同樣效應(yīng)。

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積.現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點.直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.