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化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果,其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒有太大差別?;瘜W(xué)拋光效果一般要比電解拋光效果差,拋光劑批發(fā),在化學(xué)拋光中,由于材料的質(zhì)量不均勻,會引起局部電位高低不一,產(chǎn)生局部陰陽極區(qū),形成局部短路的微電池,使陽極發(fā)生局部溶解。而在電解拋光中由于外加電位的作用可以完全消除這種局部的陰極區(qū),進(jìn)行的電解,拋光劑哪家好,因此效果更好。
多晶金剛石拋光液多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。氧化硅拋光液氧化硅拋光液(CMP拋光液)是以高純硅粉為原料,常州拋光劑,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。
優(yōu)點化學(xué)拋光的優(yōu)點是化學(xué)拋光設(shè)備簡單,不需要什么特殊設(shè)備,只需要一個盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細(xì)薄磨料片切割的試樣,切割后不需要砂紙磨光,即可直接拋光。有些非導(dǎo)體材料也可以用化學(xué)拋光,拋光劑生產(chǎn)商,非導(dǎo)體嵌鑲的試樣也可以直接拋光?;瘜W(xué)拋光也可以處理形狀比較復(fù)雜的零件
缺點1、化學(xué)拋光的質(zhì)量不如電解拋光。2、化學(xué)拋光所用溶液的調(diào)整和再生比較困難,在應(yīng)用上受到限制。3、化學(xué)拋光操作過程中,散發(fā)出大量黃棕色有害氣體,對環(huán)境污染非常嚴(yán)重。4、拋光溶液的使用壽命短,溶液濃度的調(diào)節(jié)和再生比較困難
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