AR AF濺射鍍膜機有哪些特點

專門為層數(shù)不多但要求產(chǎn)能大、的光學(xué)薄膜產(chǎn)品鍍膜生產(chǎn)而設(shè)計，適用于玻璃和塑膠光學(xué)鏡片、眼鏡片AF、AS膜的鍍膜生產(chǎn)，也適用于手機視窗(玻璃或塑膠)、塑膠片材彩色光學(xué)膜的制備。旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高?？煽椭苹幕骞ぜ芙Y(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到利用空間。率真空泵組配比與精密的腔體結(jié)構(gòu)使我司抽氣效率達(dá)到行業(yè)水平。至成RF離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點。可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。低溫成膜，可應(yīng)對各種用途。可依靠負(fù)載鎖定裝置保持穩(wěn)定的成膜品質(zhì)。利用自動濺射控制裝置，使濺射工藝實現(xiàn)了自動化。可選“校正板外部調(diào)節(jié)機構(gòu)”。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面

二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經(jīng)過加熱，抽真空和濺射等過程，而使玻璃再次污染，從而使玻璃鍍膜后產(chǎn)生。玻璃加熱過程中再污染是加熱室或濺射室不干凈，而對玻璃再污染，這些污染源主要來源于擴散泵返油、加熱室或濺射室內(nèi)臟、靶玻璃材濺射產(chǎn)生靶灰，殘余氣體壓強高等諸多方面。因為一般的固體物質(zhì)，每單位表面積上的分子數(shù)大約為10個左右，在常Pa的壓強下，每秒鐘撞表面的分子數(shù)大體上相當(dāng)于覆蓋物質(zhì)積的分子數(shù)。在殘余氣體壓強為10的情況下，假如以每秒一層原子左右的形成速度進行鍍膜時，則蒸發(fā)的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過程中在充入氣時壓強為10～10時所形成膜的速度和蒸發(fā)條件下基本相同。

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2，可以在這個范圍內(nèi)選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室，左下室和右下室。蒸鍍時，兩組蒸發(fā)源蒸發(fā)的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側(cè)，裝上輝光放電發(fā)生器。發(fā)生器產(chǎn)生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。