三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），高純氣體價(jià)格，它在蝕刻時(shí)，宜昌高純氣體，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。

主要用途：

六氟化硫（SF6）常態(tài)下是一種無色、無味、無嗅、無l毒的非燃燒性氣體，高純氣體供應(yīng)管道，分子量146.06，密度6.139g/l，約為空氣的5倍。是已知化學(xué)安定性l好的物質(zhì)之一，其惰性與氮?dú)庀嗨?。它具有極1好的熱穩(wěn)定性，純態(tài)下即使在500℃以上也不分解。

六氟化硫具有的電絕緣性和滅弧特性，相同條件下，其絕緣能力為空氣、氮?dú)獾?.5倍以上，滅弧能力為空氣的100倍。六氟化硫的熔點(diǎn)為－50.8℃，可作為－45－0℃溫度范圍內(nèi)的特殊制冷劑，高純氣體廠家，又因其耐熱性好，是一種穩(wěn)定的高溫?zé)彷d體。六氟化硫因上述及其它優(yōu)良特性，近年來被廣泛用于電力、電子、電氣行業(yè)和激光、醫(yī)l療、氣象、制冷、消防、化工、軍事、宇航、有色冶金、物理研究等。

同時(shí)，高純氧氣高爐也有自身內(nèi)在的限制。由于爐腹氣體體積下降，在還原豎井區(qū)域的固體材料的加熱潛力比傳統(tǒng)高爐低，并且需要在軸上面注入預(yù)熱氣體去補(bǔ)償還原豎井區(qū)域的熱供應(yīng)不足。

在高純氧氣高爐中，例如粉化煤等的注入有助于控制回旋區(qū)的火焰溫度，但粉化煤注入率終受到煤燃燒效率的限制。為了控制火焰溫度需要額外注入一些爐頂煤氣，爐頂冷氣的注入比例對降低焦比沒有貢獻(xiàn)，更確切的說它能增加煉鐵過程中還原劑和能量的消耗。

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