NR77-5000PY

PR1-2000A1 試驗操作流程

PR1-2000A1的厚度范圍可以做到 1500到3500nm，如下以膜厚2900nm為列；

1，靜態(tài)滴膠后以1300轉/分速度持續(xù)40秒。同時必須需要在1秒內(nèi)達到從0轉/分到1300轉/分的升速度；

2，前烘：熱板120度120秒；

3，NR27 25000P光刻膠哪里有，冷卻至室溫；

4，用波長為365，406，436的波長曝光，

5，在溫度為20-25度，使用RD6浸泡式、噴霧、顯影 ；

6，去除光刻膠，可使用CH3COCH3，RR5，RR41等。

發(fā)展

Futurrex在開發(fā)產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史

我們的客戶一直在同我們共同合作，創(chuàng)造出了很多強勢的產(chǎn)品。

在晶體管(transistor) ，封裝，微機電。顯示器，OLEDs，波導(waveguides) ，VCSELS，

成像，電鍍，NR27 25000P光刻膠，納米碳管，微流體，NR27 25000P光刻膠公司，芯片倒裝等方面。我們都已經(jīng)取得一系列的技術突破。

目前Futurrex有數(shù)百個技術在美國商標局備案。

Futurrex 產(chǎn)品目錄

正性光刻膠

增強粘附性正性光刻膠

負性光刻膠

增強粘附性負性光刻膠

先進工藝負性光刻膠

用于lift-off工藝的負性光刻膠

非光刻涂層

平坦化，保護、粘接涂層

氧化硅旋涂(spin-on glas)

摻雜層旋涂

輔助化學品

邊膠清洗液

顯影液

去膠液

Futurrex所有光刻產(chǎn)品均無需加增粘劑(HMDS)

6，堅膜

堅膜也叫后烘，NR27 25000P光刻膠廠家，是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現(xiàn)象，能使膠膜附著能力增強，康腐蝕能力提高。堅膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140度 10-30min，7，顯影檢驗，光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡，針KONG、小島。

8刻蝕

就是將涂膠前所墊基的薄膜中沒有被光刻膠覆蓋和保護的那部分進行腐蝕掉，達到將光刻膠上的圖形轉移到下層材料的目的。濕法刻蝕，SIO2，AL， Poly-Si 等薄膜，干法腐蝕。

賽米萊德公司-NR27 25000P光刻膠廠家由 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司提供。 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司堅持“以人為本”的企業(yè)理念，擁有一支高素質的員工隊伍，力求提供更好的產(chǎn)品和服務回饋社會，并歡迎廣大新老客戶光臨惠顧，真誠合作、共創(chuàng)美好未來。賽米萊德——您可信賴的朋友，公司地址：北京市北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)博興九路2號院5號樓2層208，聯(lián)系人：況經(jīng)理。