平面拋光機(jī)上面的薄膜做什么用？

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平面拋光機(jī)上面的薄膜做什么用？

隨著平面拋光機(jī)的拋光技術(shù)的發(fā)展，手動(dòng)雙端面研磨機(jī)，對(duì)工件的表面光潔度處理也很。自動(dòng)拋光機(jī)進(jìn)行拋光的時(shí)候，如果其工件凹陷的部位不溶解的話(huà)，那么其達(dá)到的工件的表面平滑的能力就更加的理想，但是實(shí)際上，凹陷處只是比工件的凸起的地方所發(fā)費(fèi)的時(shí)間要短，其速度要快而已。

因?yàn)?strong>平面拋光機(jī)上面的薄膜可以去除工件表面上凸起處的小鋸齒形面，所以自動(dòng)拋光機(jī)拋光之后表面就會(huì)顯得很光滑。當(dāng)工件上的薄膜鈍化的厚度與小鋸齒差不多被去掉的時(shí)候，所研磨拋光的速度就需要慢慢的減緩。

在平面拋光機(jī)拋光過(guò)程中，工件的表面變平的同時(shí)，總是會(huì)改變其工件的尺寸，在這里使工件變平的高度，與所溶掉的工件的厚度的比例這就是表示拋光的效率，其金屬的溶解的速度主要決定于平面自動(dòng)拋光機(jī)拋光的條件，但是這是可以提前確定的。

要達(dá)到工件的表面光潔度主要是決定于工件表面的狀態(tài)以及自動(dòng)拋光機(jī)拋光所持續(xù)的時(shí)間，表面的拋光會(huì)提高很多，其光潔度個(gè)別情況下提高還要多。

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13B雙面研磨機(jī)

主要特點(diǎn)：

1． 變頻器配合異步電動(dòng)拖動(dòng)，實(shí)現(xiàn)了軟啟動(dòng)，軟停止，調(diào)速穩(wěn)定，沖擊小；

2． 采用三電機(jī)同步拖動(dòng)，變速范圍更廣，雙端面研磨機(jī)，能適應(yīng)不同拋光材料及拋光工藝的要求；

3． 太陽(yáng)輪與內(nèi)齒圈同步升降，全自動(dòng)雙端面研磨機(jī)，滿(mǎn)足了取放工件及調(diào)整游輪嚙合位置的要求；

4． 上下拋光盤(pán)采用斜齒輪傳動(dòng)，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)；

5． 采用PLC控制，壓力采用電—?dú)獗壤y與拉力傳感器進(jìn)行閉環(huán)反饋控制，壓力過(guò)程實(shí)現(xiàn)了準(zhǔn)確控制；

6． 應(yīng)用人機(jī)界面（PT）與PLC通訊，一方面顯示運(yùn)行參數(shù)，另一方面通過(guò)其觸摸鍵調(diào)整設(shè)定各項(xiàng)工藝參數(shù)，主操作由普通鍵鈕完成。

7． 采用集中潤(rùn)滑裝置，各相對(duì)運(yùn)動(dòng)表面、齒輪嚙合部位都可得到充分潤(rùn)滑，大大提高了整機(jī)的使用壽命；

8． 上盤(pán)采用較新的“浮動(dòng)”連接裝置，解決了錯(cuò)盤(pán)問(wèn)題；

9． 采用水液分離機(jī)構(gòu)，自動(dòng)化程度高，操作方便；

10．配置手持式拋光盤(pán)清洗裝置。

精度指標(biāo):

主機(jī)精度：

1．下拋光盤(pán)端跳：        0.05mm

2．上下拋光盤(pán)平面度：    0.015mm

3. 太陽(yáng)輪徑向跳動(dòng)：      0.06mm

4．齒圈徑向跳動(dòng)：        0.10mm

加工精度（四個(gè)修平器研后）

1．一致性               ±0.0055mm

2. 平面度               0.004mm  

3. 平行度               0.005mm

加工能力：

單片承片量： 8片/Φ75mm、5片/Φ100mm

整盤(pán)承片量：  40片/Φ75mm、25片/Φ100mm

普通砂輪組織

普通砂輪組織

砂輪組織指砂輪中磨粒、結(jié)合劑、氣孔三者間的比例關(guān)系。磨粒所占體積百分比越大，氣孔越小，則砂輪的組織緊密；反之，氣孔越大，組織越疏松。通常砂輪組織表示方法有二種：

1） 在砂輪體積中磨粒所占體積的百分比，通常稱(chēng)為磨粒率來(lái)表示。

2） 用砂輪中氣孔的數(shù)量和大小，即氣孔率來(lái)表示。

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