三氟化氮主要用途是用作氟化l氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，高純氣體，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。

高純氣體 高純氦氣純度(V/V)：99.999%執(zhí)行標準 ：：產(chǎn)品介紹： 用于氣球、溫度計、電子管、潛水服等的充氣。健康危害 本品為惰性氣體，高濃度時可使氧分壓降低而有窒息危險。當空氣中氦濃度時，患者先出現(xiàn)呼吸加快、注意力不集中l(wèi)   共濟失調(diào)；繼之出現(xiàn)疲倦無力、煩躁不安、惡心、嘔吐、昏迷、抽搐，以致。吸入 迅速脫離現(xiàn)場至空氣新鮮處。保持呼吸道通暢。如呼吸困難，給輸氧。如呼吸停止，立即進行人工呼吸。就醫(yī)。

高純氧氣高爐工藝使用高純氧氣代替熱鼓風。與傳統(tǒng)高爐相比，由于高純氧氣高爐在無氮環(huán)境下運行，使提高一倍的生產(chǎn)率成為可能。

此外，與傳統(tǒng)高爐相比，氧氣高爐的CO2排放已經(jīng)明顯降低。文章研究了以l新提出的高純氧氣高爐為基礎(chǔ)的煉鐵工藝的優(yōu)良配置，旨在實現(xiàn)完整煉鋼工序能源消耗的l小化。高純氧氣高爐的煉鐵工藝的優(yōu)良配置，旨在實現(xiàn)完整煉鋼工序能源消耗的l小化。

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