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按石英含量可分為兩類：①長(zhǎng)石石英巖，石英含量大于75%，常含長(zhǎng)石及云母等礦物，長(zhǎng)石含量一般少于20%。如長(zhǎng)石含量增多，則過渡為淺粒巖。②石英巖，石英含量大于90%，可含少量云母、長(zhǎng)石、磁鐵礦等礦物。

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一種具有保護(hù)環(huán)的光刻板，包括光刻板本體和設(shè)置在光刻板本體外圈的保護(hù)環(huán)，制版報(bào)價(jià)，所述保護(hù)環(huán)緊密圍在光刻板本體的外部邊緣處并將內(nèi)部的光刻板本體圍起，制版，所述保護(hù)環(huán)上具有圓型開孔、直角型開孔與直線型開孔，所述直角型開孔設(shè)置在光刻板本體的轉(zhuǎn)角處，所述直線型開孔設(shè)置在光刻板本體的水平邊緣與豎直邊緣，所述圓型開孔設(shè)置在直角型開孔與直線型開孔的連接處。

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光刻（英語(yǔ)：photolithography）是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。

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