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一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體
元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物
一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um
X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理
X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發(fā)出的X射線,它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息,通過對(duì)X射線熒光的分析確定被測(cè)樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。由原子物理學(xué)的知識(shí),電鍍膜厚儀,對(duì)每一種化學(xué)元素的原子來說,都有其特定的能級(jí)結(jié)構(gòu),其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛,成為自由電子,這時(shí)原子被激發(fā)了,處于激發(fā)態(tài)。此時(shí),涂層測(cè)厚儀,其他的外層電子便會(huì)填補(bǔ)這一空位,即所謂的躍遷,同時(shí)以發(fā)出X射線的形式放出能量。
X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理
由于每一種元素的原子能級(jí)結(jié)構(gòu)都是特定的,它被激發(fā)后躍遷時(shí)放出的X射線的能量也是特定的,稱之為特征X射線。通過測(cè)定特征X射線的能量,便可以確定相應(yīng)元素的存在,而特征X射線的強(qiáng)弱(或者說X射線光子的多少)則代表該元素的含量。
一六儀器 **測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法 X射線熒光鍍層測(cè)厚儀
應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題
定位方式:
1、移動(dòng)平臺(tái):
A、手動(dòng)(普通和帶精密滑軌移動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.5mm-0.005mm不等,移動(dòng)的靈動(dòng)性差距也很大。
B、電動(dòng)(自動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.2mm-0.002mm不等
但同樣的手動(dòng)或者自動(dòng),其定位精準(zhǔn)也相差很多。
2、高度定位:
A、手動(dòng)變焦和無變焦
B、激光對(duì)焦和CCD識(shí)別對(duì)焦
江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。我們**的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),電鍍測(cè)厚儀,經(jīng)與海內(nèi)外多名通力合作,測(cè)厚儀,研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀。穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進(jìn)的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題
目前,金屬鍍層常用的分析方法有濕化學(xué)電解分析、輝光放電---發(fā)射光譜分析(GD-OES)和X射線熒光光譜儀等。濕化學(xué)電解分析需選用適當(dāng)溶劑溶解選定的鍍層,逐層溶解并進(jìn)行測(cè)定,方法準(zhǔn)確但費(fèi)時(shí)費(fèi)力,尤其是相關(guān)特定溶劑的選擇也非常復(fù)雜,價(jià)格又貴,屬于典型破壞性樣品檢測(cè),測(cè)量手段手段繁瑣,速度慢,電解液耗損大,目前一般很少應(yīng)用。GD-OES方法用惰性原子逐層轟擊及剝離試樣表層,再用發(fā)射光譜測(cè)定,這種方法可實(shí)現(xiàn)剖面或逐層分析,但測(cè)量重復(fù)性并不理想。
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