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真空鍍膜一種通過物理方法生產(chǎn)薄膜材料的技術(shù)。真空室中材料的原子與熱源隔離,并撞擊要鍍覆的物體表面。這項(xiàng)技術(shù)*首先用于生產(chǎn)光學(xué)透鏡,例如船用望遠(yuǎn)鏡透鏡。后來擴(kuò)展到其他功能膜,例如記錄鋁電鍍,裝飾涂層和材料表面改性。例如,蘭考不銹鋼鍍鈦哪家好,表殼鍍有仿金,然后對(duì)機(jī)床進(jìn)行了涂層處理以改變加工硬度。真空鍍膜主要使用輝光放電在目標(biāo)表面擊中ya(Ar)離zi。靶的原子被噴射并沉積在基板表面上以形成薄膜。濺射膜的性質(zhì)和均勻性優(yōu)于蒸發(fā)膜,真空不銹鋼鍍鈦哪家好,但是涂布速度比蒸發(fā)膜慢得多。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制
不同應(yīng)用時(shí)輸出鏡有不同透過率的要求,因此必須采用光學(xué)鍍膜方法。對(duì)于CO2激光燈中紅外線波段,常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等;對(duì)于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段,常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外,還可以鍍對(duì)某波長增反射、對(duì)另一波長增透射的特殊膜,如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。光學(xué)鍍膜基本原理光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制
離子鍍?cè)谡婵諚l件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離,并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應(yīng)離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。真空鍍的基本流程如下方框圖:真空鍍由于是氣象沉積,一般能噴涂的塑膠材料都能實(shí)現(xiàn)真空鍍,如ABS,P,PMMA,裝飾不銹鋼鍍鈦哪家好,PET,PS等。真空鍍表面顏色不受限制,通過鍍不同的金屬體現(xiàn)不同的顏色,金屬不銹鋼鍍鈦哪家好,還以做五顏六色的彩鍍,舉例如下銀色,可鍍鉻,鋁,鎳等來實(shí)現(xiàn)金色,可鍍金,鈦的氮化物與金合金,黑色與槍色,鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便,真空鍍可以利用夾具來遮擋不需要電鍍的區(qū)域。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制
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