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光刻是制造半導體器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來自版圖。如果光刻版不潔凈，存在污染顆粒，這些顆粒就會被到硅片表面的光刻膠上，造成器件性能的下降。

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光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學反應(yīng)，選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，連云港制版，在于你常用的光刻膠，制版報價，每個光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

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光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉呒兌?，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

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