超聲波提取設備發(fā)展

超聲波清洗技術經(jīng)過幾十年來的理論探討和應用研究，無論設備還是工藝上均取得了較大的發(fā)展，有關單位相繼研發(fā)了一大批信的產(chǎn)品，也制定出了一次阿先進典型的清洗工藝。

   1.高頻超聲清洗

   對于象硅片表面小至零點幾微米的超微污物粒子，常規(guī)的超聲波清洗器無能為力，即使增加功率密度也無濟于事。近年來發(fā)展了一種兆赫茲級的高頻超聲清洗技術，由于頻率高，空化效應已不起作用，超聲波中藥提取設備，因此清洗的關鍵不是氣泡，是高頻壓力波的擦洗作用，其對污物的去除率一百。高頻清洗進來發(fā)展較快，主要用于超大規(guī)模集成電路芯片上的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。

超聲波提取設備特點

常壓提取，超聲波提取設備圖片，安全性高，操作簡便易行，方便人員維護保養(yǎng)。 

提取。超聲波強化萃取20～40分鐘即可獲提取率，萃取時間僅為水煮、醇沉法的三分之一或更少。萃取充分，萃取量是傳統(tǒng)方法的二倍以上。據(jù)統(tǒng)計，超聲波在65～70oC工作效率非常高。而溫度在65oC度內(nèi)中藥植物的有效成份基本沒有受到破壞。加入超聲波后（在65度條件下），植物有效成份提取時間約40分鐘。而蒸煮法的蒸煮時 間往往需要兩到三小時，是超聲波提取時間的3倍以上時間。

3：超聲波清洗的效果要如何實現(xiàn)？

答：重要的是選擇合適的清洗液，超聲波提取設備，在正確的溫度下清洗恰當?shù)臅r間，選擇合適尺寸和類型的超聲波清洗機。

4：直接清洗和間接清洗如何區(qū)分？

答：直接清洗通常是指工件在裝滿清洗液的清洗槽內(nèi)清洗；間接清洗則是將待清洗的工件放在燒杯或不帶孔的托盤內(nèi)，而不是直接裝在清洗槽內(nèi)。直接清洗需要選擇那些不會損傷超聲波清洗槽的清洗液，間接清洗時需確認槽內(nèi)的水位被保持在標準位置。

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